[發明專利]多觸點井下落物成像方法及裝置、電子設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202011070634.6
• 申請日: 2020-10-09
• 公開（公告）號: CN112255701A
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發明（設計）人: 尹立山;曹宇欣;楊建明;史浩然;王凡;安軼文;堯友;譚成龍;張英男;李杰;任立偉
• 申請（專利權）人: 中國石油天然氣集團有限公司;中國石油集團測井有限公司
• 主分類號: G01V9/00
• 分類號: G01V9/00;G01V3/08;G01B21/20;G01B7/28
• 代理公司: 大慶知文知識產權代理有限公司 23115
• 代理人: 楊英健

1.一種多觸點井下落物成像方法，其特征在于，包括：

獲取井下落物表面產生的多個位移信息；

基于所述多個位移信息對所述井下落物進行成像。

2.根據權利要求1所述的多觸點井下落物成像方法，其特征在于，所述獲取井下落物表面產生的多個位移信息的方法，包括：

設定位移檢測陣列的每次下落深度，并根據所述每次下落深度控制所述位移檢測陣列進行下落；

分別確定所述位移檢測陣列在每次下落深度下對應的所述井下落物表面產生的層位移信息；

將所述位移檢測陣列在下落過程中產生的所有層位移信息確定為所述多個位移信息。

3.根據權利要求2所述的多觸點井下落物成像方法，其特征在于，所述獲取井下落物表面產生的多個位移信息的方法，還包括：

若在所述每次下落深度下產生的層位移信息時，所述位移檢測陣列中的相應探針對應的位移檢測機構產生接觸指令以及確定每次下落深度下的接觸指令數目；

根據每次下落前以及每次下落后的接觸指令數目控制所述位移檢測陣列是否進行下落。

4.根據權利要求3所述的多觸點井下落物成像方法，其特征在于，所述根據每次下落深度前以及每次下落深度后的接觸指令數目控制所述位移檢測陣列是否進行下落的方法，包括：

計算所述位移檢測陣列每次下落前以及每次下落后的接觸指令數目的差值；

若所述差值小于等于設定值，則控制所述位移檢測陣列停止下落，并將下落深度前的所有層位移信息確定為所述多個位移信息；否則，控制所述位移檢測陣列進行下落。

5.根據權利要求1-4任一項所述的多觸點井下落物成像方法，其特征在于，所述基于所述多個位移信息對所述井下落物進行成像的方法，包括：

根據所述多個位移信息及其對應的井下落物表面層位進行三維重構，完成對所述井下落物的成像。

6.根據權利要求5所述的多觸點井下落物成像方法，其特征在于，所述根據所述多個位移信息及其對應的井下落物表面層位進行三維重構的方法，包括：

分別確定井下落物表面的每層上的層位移信息；

根據所述層位移信息確定井下落物表面的每層的曲面，基于每層之間的所述曲面完成三維重構。

7.一種多觸點井下落物成像裝置，其特征在于，包括：

獲取單元，獲取井下落物對傳感器陣列產生的多個位移信息；

成像單元，用于基于所述多個位移信息對所述井下落物進行成像。

8.一種多觸點井下落物成像裝置，其特征在于，包括：位移檢測陣列、控制機構及成像機構；

所述位移檢測陣列分別與所述控制機構及所述成像機構連接；

所述控制機構，用于按照設定下落深度控制所述位移檢測陣列在井內進行下落；

所述位移檢測陣列，用于檢測井下落物表面產生的多個位移信息；

所述成像機構，用于基于所述多個位移信息對所述井下落物進行成像。

9.一種電子設備，其特征在于，包括：

處理器；

用于存儲處理器可執行指令的存儲器；

其中，所述處理器被配置為調用所述存儲器存儲的指令，以執行權利要求1至6中任意一項所述的多觸點井下落物成像方法。

10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序指令，其特征在于，所述計算機程序指令被處理器執行時實現權利要求1至6中任意一項所述的多觸點井下落物成像方法。