[發(fā)明專利]透鏡驅(qū)動(dòng)裝置、相機(jī)模塊和光學(xué)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011069028.2 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112492136B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙在弘;李熙世;韓珍石 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | LG伊諾特有限公司 |
| 主分類號(hào): | H04N23/57 | 分類號(hào): | H04N23/57;H04N23/67;H04N23/50;H04N23/55;H04N23/51;H04N23/54 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 黃霖;李新燕 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透鏡 驅(qū)動(dòng) 裝置 相機(jī) 模塊 光學(xué) | ||
1.一種透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,包括:
基部;
殼體,所述殼體包括布置在所述基部上的孔;
磁體,所述磁體布置在所述殼體上;以及
磁體容納部,所述磁體容納部布置在所述殼體處并且容納所述磁體的至少一部分,
其中,所述殼體的面向所述基部的內(nèi)部表面的外部表面的至少一部分形成為傾斜表面,以使得外力施加至所述殼體的作用點(diǎn)朝向上部移動(dòng),
其中,所述磁體容納部的至少一個(gè)表面設(shè)置成敞開表面,從而使得所述磁體的磁力施加至布置于內(nèi)側(cè)的線圈,并且
在所述敞開表面的相反兩個(gè)側(cè)端部處設(shè)置有沿所述敞開表面的中心方向突出的卡持梁。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述殼體被容納在所述基部的上部處,并且所述傾斜表面隨著所述傾斜表面向下延伸而從所述基部的內(nèi)表面更進(jìn)一步地向后傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述磁體固定在所述磁體容納部處,其中,所述磁體的上表面接觸所述磁體容納部的接觸側(cè)表面,所述磁體容納部的所述接觸側(cè)表面包括具有曲線形狀的凹槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述傾斜表面的傾斜角的起始部成為外力通過所述基部傳遞至所述殼體的作用點(diǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述殼體的所述外部表面設(shè)置為第一高度,并且所述傾斜表面的高度高于或等于所述第一高度的一半。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述卡持梁的在所述敞開表面的所述中心方向上的長(zhǎng)度形成在預(yù)定長(zhǎng)度內(nèi),以便不影響施加至所述線圈的磁力。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述基部和所述殼體中的至少一者包括用于吸收從所述基部傳遞至所述殼體的外力的空氣間隙。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述透鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括:
線筒,所述線筒布置在所述殼體內(nèi)部;
第一線圈,所述第一線圈布置在所述線筒上;以及
板,所述板包括布置在所述基部上且面向所述磁體的第二線圈,
其中,所述磁體面向所述第一線圈。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,包括:
第一側(cè)壁部,所述第一側(cè)壁部形成在所述殼體處并且包括粘合劑表面,所述粘合劑表面用于將所述磁體粘附至所述第一側(cè)壁部;
第二側(cè)壁部,所述第二側(cè)壁部形成在所述基部處,并且所述第二側(cè)壁部容納所述第一側(cè)壁部的至少一部分;以及
空氣間隙,所述空氣間隙形成在所述第一側(cè)壁部和所述第二側(cè)壁部中的至少一者上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述磁體、所述第一側(cè)壁部、所述第二側(cè)壁部以及所述空氣間隙的至少一部分彼此重疊。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述第一側(cè)壁部和所述第二側(cè)壁部中的至少一者包括用于形成所述空氣間隙的所述空氣間隙形成部,當(dāng)從所述基部產(chǎn)生至所述殼體的外力時(shí),所述空氣間隙形成部變形以使所述空氣間隙變窄,并且所述空氣間隙形成部通過彈力恢復(fù)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述空氣間隙的長(zhǎng)度與所述第一側(cè)壁部容納在所述第二側(cè)壁部中的長(zhǎng)度對(duì)應(yīng)。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述空氣間隙的至少一側(cè)是敞開的。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透鏡驅(qū)動(dòng)裝置,其中,所述透鏡驅(qū)動(dòng)裝置包括:
線筒,所述線筒布置在所述殼體內(nèi)部;
第一線圈,所述第一線圈布置在所述線筒上;以及
板,所述板包括布置在所述基部上且面向所述磁體的第二線圈;
其中,所述磁體面向所述第一線圈。
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