[發(fā)明專利]一種低壓反應(yīng)釜在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011068798.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114288964A | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 俞紅娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 張家港清澄納米科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01J19/18 | 分類號(hào): | B01J19/18;B01J3/00 |
| 代理公司: | 蘇州市港澄專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32304 | 代理人: | 趙維達(dá) |
| 地址: | 215600 江蘇省蘇州市張家港市東*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 低壓 反應(yīng) | ||
本申請(qǐng)公開了一種低壓反應(yīng)釜,包括釜體,所述釜體外壁形成有加熱腔,所述釜體軸心處安裝有一攪拌軸,所述攪拌軸延伸至所述釜體內(nèi)部靠近底部處,所述攪拌軸靠近底部處均勻連接有多個(gè)攪拌桿,所述攪拌軸頂部凸伸于所述釜體外側(cè),所述攪拌軸軸心形成有通孔,所述攪拌桿表面均勻布設(shè)有連通所述通孔的圓孔,所述攪拌軸頂部連接于中轉(zhuǎn)腔。本發(fā)明通過將攪拌軸設(shè)計(jì)成中空,并且連通于攪拌桿上的圓孔,當(dāng)反應(yīng)需要添加氣體或液體物料時(shí),可以直接從中轉(zhuǎn)腔加入,并且由于在攪拌時(shí)加入,確保了物料的充分反應(yīng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及反應(yīng)釜,特別涉及一種低壓反應(yīng)釜。
背景技術(shù)
反應(yīng)釜由釜體、釜蓋、夾套、攪拌器、傳動(dòng)裝置、軸封裝置、支承等組成。攪拌裝置在高徑比較大時(shí),可用多層攪拌槳葉,也可根據(jù)用戶的要求任意選配。釜壁外設(shè)置夾套,或在器內(nèi)設(shè)置換熱面,也可通過外循環(huán)進(jìn)行換熱。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種低壓反應(yīng)釜。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案。
本申請(qǐng)實(shí)施例公開了一種低壓反應(yīng)釜,包括釜體,所述釜體外壁形成有加熱腔,所述釜體軸心處安裝有一攪拌軸,所述攪拌軸延伸至所述釜體內(nèi)部靠近底部處,所述攪拌軸靠近底部處均勻連接有多個(gè)攪拌桿,所述攪拌軸頂部凸伸于所述釜體外側(cè),所述攪拌軸軸心形成有通孔,所述攪拌桿表面均勻布設(shè)有連通所述通孔的圓孔,所述攪拌軸頂部連接于中轉(zhuǎn)腔。
優(yōu)選的,在上述的低壓反應(yīng)釜中,所述中轉(zhuǎn)腔通過管路連通于氣體或液體入口。
優(yōu)選的,在上述的低壓反應(yīng)釜中,所述釜體頂部形成有固體物料入口。
優(yōu)選的,在上述的低壓反應(yīng)釜中,所述攪拌軸靠近頂部處固定安裝有第一齒輪,所述第一齒輪咬合于第二齒輪,所述第二齒輪通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
優(yōu)選的,在上述的低壓反應(yīng)釜中,所述加熱腔成螺旋上升,所述加熱腔一側(cè)底部形成有蒸汽入口,另一側(cè)頂部形成有蒸汽出口。
優(yōu)選的,在上述的低壓反應(yīng)釜中,所述釜體中部形成有透視窗口。
優(yōu)選的,在上述的低壓反應(yīng)釜中,所述釜體上設(shè)置有溫度監(jiān)測器。
優(yōu)選的,在上述的低壓反應(yīng)釜中,所述釜體底部形成有排料口。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本技術(shù)方案通過將攪拌軸設(shè)計(jì)成中空,并且連通于攪拌桿上的圓孔,當(dāng)反應(yīng)需要添加氣體或液體物料時(shí),可以直接從中轉(zhuǎn)腔加入,并且由于在攪拌時(shí)加入,確保了物料的充分反應(yīng)。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請(qǐng)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)中記載的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1所示為本發(fā)明具體實(shí)施例中低壓反應(yīng)釜的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
在本發(fā)明的描述中,需要說明的是,術(shù)語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外,術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于張家港清澄納米科技有限公司,未經(jīng)張家港清澄納米科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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