[發(fā)明專利]一種用于光學(xué)膜的基材有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011067133.2 | 申請日: | 2020-10-05 |
| 公開(公告)號: | CN112297570B | 公開(公告)日: | 2022-01-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳培服;吳迪;王琪;池衛(wèi) | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇雙星彩塑新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B27/36 | 分類號: | B32B27/36;B32B7/06;B32B27/06;B32B33/00;C09D133/12;C09D7/61;C09D7/63;G02B1/111 |
| 代理公司: | 北京尚德技研知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11378 | 代理人: | 嚴(yán)勇剛;段澤賢 |
| 地址: | 223808 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 光學(xué) 基材 | ||
本發(fā)明提出了一種用于光學(xué)膜的基材,是一種兩面均帶有亞克力涂層的復(fù)合基材,依次由第一離型膜、第一亞克力涂層、復(fù)合聚酯薄膜、第二亞克力涂層以及第二離型膜構(gòu)成,所述復(fù)合聚酯薄膜由三層共擠而成的第一聚酯層、第二聚酯層以及夾芯層構(gòu)成;所述第一亞克力涂層的折射率為1.60以上,所述第二亞克力涂層的折射率為1.47~1.50左右。本發(fā)明的光學(xué)膜采用的是兩面均帶有亞克力涂層的復(fù)合基材,位于視覺正面的第一亞克力涂層具有更大的折射率,有利于消除基材上形成的微觀結(jié)構(gòu)、涂層、電路等圖案的影像,有利于提高光學(xué)膜的視覺感受效果。位于視覺背面的第二亞克力涂層的折射率要相對小一些,可以降低成本和功耗。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)顯示、照明等領(lǐng)域的光學(xué)膜片,尤其涉及用于生產(chǎn)各種光學(xué)膜的基材,特別涉及一種用于光學(xué)膜的基材。所述光學(xué)膜可用于光學(xué)、照明等領(lǐng)域中的保護(hù)膜、反射膜、擴(kuò)散膜、增亮膜、遮光膜等等,當(dāng)然,本發(fā)明并不僅限于此。
背景技術(shù)
光學(xué)、照明等領(lǐng)域中的保護(hù)膜、反射膜、擴(kuò)散膜、增亮膜、遮光膜等,都需要用到聚酯薄膜基材。聚酯薄膜具有優(yōu)良的機(jī)械性能、尺寸穩(wěn)定性、耐化學(xué)性和電氣絕緣性,廣泛應(yīng)用于包裝、電子電器、光學(xué)等領(lǐng)域。另外,光學(xué)領(lǐng)域的聚酯薄膜基材對光學(xué)性能要求也很高,如擴(kuò)散膜和增亮膜的透光率通常要求能夠高于90%以上,霧度低于2.0以下;保護(hù)膜的透光率通常則要求能夠高于94%以上,霧度則低于1以下。
發(fā)明人先前發(fā)明的中國專利發(fā)明2015102836440中,公開了一種無圖案導(dǎo)光板用光學(xué)膜片,所述光學(xué)膜片貼附于無圖案導(dǎo)光板的側(cè)面,所述光學(xué)膜片包括透明的基材膜,所述基材膜上形成有多個(gè)平行排列的橫截面為等腰梯形的棱鏡柱,其中越是靠近LED光源的地方,棱鏡柱的密度越大,越是遠(yuǎn)離LED光源的地方,棱鏡柱的密度越小。該現(xiàn)有技術(shù)的上述結(jié)構(gòu)的無圖案導(dǎo)光板用光學(xué)膜片提供了一種不用改變現(xiàn)有無圖案導(dǎo)光板的結(jié)構(gòu)的情況下,通過在無圖案導(dǎo)光板表面貼附具有特定圖案結(jié)構(gòu)的光學(xué)膜片,形成了具備使整個(gè)顯示器亮度均勻的背光,可以消除液晶顯示器亮度不均勻的缺陷,提高了顯示效果。
另外,發(fā)明人還發(fā)明了類似的一系列的光學(xué)膜片,這些光學(xué)膜片分別公開在201810561341.4、201810561323.6、201810561304.3等中國專利發(fā)明中,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以參考發(fā)明人的上述現(xiàn)有技術(shù)理解本發(fā)明。
上述現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)膜,其上的各種微觀結(jié)構(gòu)都需要附著在一層光學(xué)透明的基材上,該基材即為光學(xué)膜的基本功能層。作為光學(xué)膜的基礎(chǔ),上述現(xiàn)有技術(shù)中的基材可以采用透明PET,PP或PC塑料等制成。這種透明基材需要滿足光學(xué)膜基本的強(qiáng)度、柔韌性、透光性、耐熱性等等要求。
另外,本領(lǐng)域技術(shù)人員也可以參考其它有關(guān)聚酯薄膜的現(xiàn)有技術(shù)來獲得用于光學(xué)膜的基材。例如,CN 108610609 A公開了一種高收縮性聚酯薄膜及其制備方法,所述高收縮性聚酯薄膜包括以下原料:對苯二甲酸、乙二醇、二硬脂酸羥基鋁、環(huán)糊精、納米二氧化硅、混合催化劑。該現(xiàn)有技術(shù)以對苯二甲酸和乙二醇為主要原料經(jīng)酯化、聚合反應(yīng)得到聚酯樹脂液,在聚合過程中添加合理比例的二硬脂酸羥基鋁和環(huán)糊精可以粘附在得到的共聚物表面,并與聚合物作用形成一定的空間位阻,有效降低聚合物的結(jié)晶能力,而納米二氧化硅的加入不但可以協(xié)助二硬脂酸羥基鋁和環(huán)糊精增大共聚物之間的間距,降低共聚物的結(jié)晶能力,還能夠提高聚酯薄膜的耐磨性能,延長聚酯薄膜的使用壽命、擴(kuò)大聚酯薄膜的使用范圍,提高聚酯薄膜的熱收縮率。
然而作為光學(xué)膜基材,需要保持較低的收縮性以確保基材涂層穩(wěn)定,高收縮性的聚酯薄膜并不適于作為光學(xué)膜基材來使用。
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