[發(fā)明專利]一種高速激光均勻雕刻的方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202011065154.0
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112192032A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫帥華;洪漢明;肖成柱
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市睿達科技有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362
• 代理公司: 深圳市神州聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44324
• 代理人: 王志強

1.一種高速激光均勻雕刻的方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：

步驟1，確認雕刻路徑，準備有雕刻載體，在載體上確認雕刻區(qū)域，并在雕刻區(qū)域內(nèi)設(shè)置有復(fù)數(shù)條雕刻路徑；

步驟2，正向激光雕刻，采用激光雕刻裝置沿一條雕刻路徑首端開始，進行勻速的激光雕刻至該雕刻路徑尾端，激光雕刻裝置至該雕刻路徑的尾端的時候在載體的雕刻區(qū)域外繼續(xù)運動至另一條雕刻路徑的尾端；

步驟3，反向激光雕刻，激光雕刻裝置沿另一條雕刻路徑的尾端開始，進行勻速的激光雕刻至該雕刻路徑首端，激光雕刻裝置至該雕刻路徑的首端的時候在載體的雕刻區(qū)域外繼續(xù)運動至下一條雕刻路徑的首端；

步驟4，雕刻完成，激光雕刻裝置從下一條雕刻路徑的首端開始，按照步驟2和步驟3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式，依次激光雕刻其余的雕刻路徑，直至雕刻區(qū)域內(nèi)所有的雕刻路徑全部激光雕刻完成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高速激光均勻雕刻的方法，其特征在于，在步驟2中，激光雕刻裝置至該雕刻路徑的尾端的時候在載體的雕刻區(qū)域外做弧形運動至另一條雕刻路徑的尾端。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高速激光均勻雕刻的方法，其特征在于，激光雕刻裝置在載體的雕刻區(qū)域外做弧形運動時，為勻速運動。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高速激光均勻雕刻的方法，其特征在于，在步驟3中，激光雕刻裝置至該雕刻路徑的首端的時候在載體的雕刻區(qū)域外做弧形運動至下一條雕刻路徑的首端。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高速激光均勻雕刻的方法，其特征在于，激光雕刻裝置在載體的雕刻區(qū)域外做弧形運動時，為勻速運動。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高速激光均勻雕刻的方法，其特征在于，在步驟1中，雕刻區(qū)域均分為上雕刻區(qū)域和下雕刻區(qū)域，復(fù)數(shù)條雕刻路徑平均分布在上雕刻區(qū)域和下雕刻區(qū)域內(nèi)；且所述雕刻區(qū)域在進行激光雕刻時，采用激光雕刻裝置交替雕刻上雕刻區(qū)域內(nèi)的雕刻路徑和下雕刻區(qū)域的雕刻路徑。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種高速激光均勻雕刻的方法，其特征在于，所述上雕刻區(qū)域的雕刻路徑進行激光雕刻時，其順序為由上至下依次雕刻；所述下雕刻區(qū)域的雕刻路徑進行激光雕刻時，其順序為由上至下依次雕刻。