[發明專利]一種帶式拋光墊在審
| 申請號： | 202011061968.7 | 申請日： | 2020-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN112247830A | 公開（公告）日： | 2021-01-22 |
| 發明（設計）人： | 胡璐 | 申請（專利權）人： | 南京華易泰電子科技有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/24 | 分類號： | B24B37/24;B24B37/26;B24B13/01;B24B21/00;B24B21/20;B24D11/00;B24D3/00;B24D3/28 |
| 代理公司： | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616 | 代理人： | 屠佳婕 |
| 地址： | 210032 江蘇省南*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 拋光 | ||
1.一種帶式拋光墊，包括傳動軸(521)、聯動軸(523)和皮帶式研磨劑(500)，其特征在于，所述皮帶式研磨劑(500)為具有履帶的帶狀結構，在帶內部的兩端形成有使帶旋轉的傳動軸(521)和使帶旋轉時聯動的聯動軸(523)，所述皮帶式研磨劑(500)的表面均勻地布置以排出漿料(531)的孔(501)，所述皮帶式研磨劑(500)由氨基甲酸乙酯(Urethan)材質的樹脂(resin)和氧化鋯(ZrO2)磨料混合并成型，且所述氧化鋯(ZrO2)的與氨基甲酸乙酯的混合比保持在0.5wt％至10wt％。
2.根據權利要求1所述的一種帶式拋光墊，其特征在于，在用于對被拋光材料進行平坦化處理的皮帶式研磨劑(500)中，需要高度的表面平坦度。
3.根據權利要求1所述的一種帶式拋光墊，其特征在于，所述孔(501)的直徑為1mm且密度為10％至16％的孔(501)，以將漿料(531)排出到皮帶式研磨劑(500)的表面上。
4.根據權利要求1所述的一種帶式拋光墊，其特征在于，所述漿料(531)分散的被供應在傳動軸(521)和聯動軸(523)之間。
5.根據權利要求1所述的一種帶式拋光墊，其特征在于，所述皮帶式研磨劑(500)位于待拋光材料的加工表面上，在與待拋光材料的輸送方向相反的方向上進行旋轉研磨。
6.根據權利要求1所述的一種帶式拋光墊，其特征在于，所述待拋光的材料是用于半導體器件的硅晶片，存儲盤，磁盤，光學透鏡，反射鏡，玻璃板，金屬中的任何一種。
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