[發明專利]一種離型膜、干膜結構及導電膜

在審

• 申請號: 202011059992.7
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112306289A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 胡冬生;寨虎;江峰;陳定
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲顯示科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;B32B7/06;B32B27/06;B32B27/36;C09J7/10
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

本發明公開了一種離型膜，包括離型層、濾光層和基材層，濾光層夾設在離型層和基材層之間，濾光層用于曝光時調整所述離型膜的透光率，離型膜的透光率范圍為60％?70％。本申請通過在離型膜中設置一濾光層，在滿足曝光功效的前提下對曝光強度進行限制，避免在黃光工藝中因金屬層的鏤空區帶來的交叉曝光風險，提升了產品的良品率。同時本申請還提供了一種干膜結構和導電膜。

技術領域

本發明設計顯示器件領域，特別是一種離型膜、干膜結構及導電膜。

背景技術

傳統的導電膜黃光工藝中包含壓膜、曝光、顯影、蝕刻、剝膜等工序，干膜是一種高分子的化合物，它通過紫外線的照射后能夠產和一種聚合反應形成一種穩定的物質附著于板面，從而達到阻擋電鍍和蝕刻的功能，利用干膜的這種特性，采用多次的黃光制程搭配不同的光罩設計可以分步形成線路區和顯示區。而在形成顯示區的濕線制程中，因為光罩設計，設備對位，干膜特性等原因容易導致部分不需要曝光的干膜曝光，這部分干膜在濕制程中脫落并沾在滾輪上，阻擋顯示區的蝕刻，形成銅殘留不良。

發明內容

本發明提供一種包含濾光層的離型膜，實現干膜結構的曝光選擇，避免交叉曝光，導致金屬層的殘留。

一方面，本發明提供了一種離型膜，包括離型層、濾光層和基材層，所述濾光層夾設在所述離型層和所述基材層之間，所述濾光層用于光照時調整所述離型膜的透光率，在光照情況下，所述離型膜的透光率范圍為60％-70％。實施例中的離型膜適包括離型層、濾光層和基材層，其中濾光層的作用在于調整離型膜的透光率，使其透光率保持在60％-70％，即半透明的作用。在使用過程中，包含該離型膜的干膜結構附著于被蝕刻PET基材層(滌綸樹脂)兩側，在干膜結構和PET基材層之間設有蝕刻銅模，在黃光工藝中會有二次顯影、蝕刻的過程，而PET基材層兩側的銅膜會因為第一次顯影、蝕刻出現不同的鏤空區，此時進行二次曝光時，光線會通過銅膜的鏤空區，導致PET基材層兩側的干膜受到另一側光線的干擾，導致曝光失敗，而在本申請中，由于干膜結構中的離型膜具有濾光層，該濾光層能夠極大的降低銅膜被蝕刻后的透光影響，確保黃光工藝的正常進行。

一種可能的實施方式中，所述濾光層的厚度范圍為50um-100um。實施例中濾光層的作用在于控制整個離型膜的透光率，而對于濾光層而言，其厚度越大透光率越差，越有利于降低銅膜被蝕刻后的透光影響。但是現實中離型膜是卷成筒狀進行存放，因此離型膜的厚度不易設計太厚，即濾光層的厚度不能設計的太厚，當濾光層的厚度范圍為50um-100um時，既可以滿足離型膜的通光率需要，同時也降低其對存放的影響。

一種可能的實施方式中，所述濾光層的顏色為綠色或藍色。當濾光層顏色為綠色或藍色時，能更為有效的對透光率進行限制，相同厚度下透光率更低。

一種可能的實施方式中，在所述基材層背離所述濾光層的一側設有防靜電層。在存放、加工過程中，離型膜上不可避免附帶了靜電，如果沒有防靜電層的設計，會導致離型膜因靜電效應而吸附環境周圍的灰塵，而在進行加工過程中這些灰塵會被帶入到PET基材層或者其他產品上，造成塵埃污染，影響成品率。

一種可能的實施方式中，所述防靜電層背離所述基材層的一側設有涂料層和耐磨層。涂料層主要是含硅油的混合物，常見的是由丙烯酸、丙烯酸丁酯、苯乙酸、環氧樹脂和甲苯中的幾種物質組成，在離型膜中設計涂料層的有點在于增強整個離型膜的抗壓性和強度，避免離型膜在受到外力作用時變形破損。在離型膜的存放和加工使用過程中，不可避免會對離型膜剮蹭，這里的實施方式通過耐磨層的設計能夠增強其使用壽命。

一種可能的實施方式中，在所述離型層背離所述濾光層的一側表面包括多個納米吸附塊。離型層的作用在于同干膜層進行貼附，這里設計的納米吸附塊能夠增強離型層和干膜層之間的吸附效果，避免二者之間的氣泡產生。