[發(fā)明專利]半導體裝置及電子設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011059595.X | 申請日: | 2020-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN112750832A | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發(fā)明(設計)人: | 山崎舜平;木村肇;國武寬司 | 申請(專利權)人: | 株式會社半導體能源研究所 |
| 主分類號: | H01L27/108 | 分類號: | H01L27/108;H01L29/24 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;姜冰 |
| 地址: | 日本神奈*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 裝置 電子設備 | ||
1.一種半導體裝置,包括:
在第一方向上延伸的結構體;
在第二方向上延伸的第一導電體;以及
在所述第二方向上延伸的第二導電體,
其中,所述結構體包括:
在所述第一方向上延伸的第三導電體;
與所述第三導電體相鄰的第一絕緣體;
與所述第一絕緣體相鄰的第一半導體;以及
與所述第一半導體相鄰的第二絕緣體,
在所述結構體與所述第一導電體交叉的第一交叉部,所述半導體裝置在所述結構體與所述第一導電體之間包括:
與所述第二絕緣體相鄰的第二半導體;以及
與所述第二半導體相鄰的第三絕緣體,
在所述結構體與所述第二導電體交叉的第二交叉部,所述結構體包括:
與所述第二絕緣體相鄰的第四導電體;以及
與所述第四導電體相鄰的第四絕緣體,
在所述第一交叉部,所述第一絕緣體、所述第一半導體、所述第二絕緣體、所述第二半導體以及所述第三絕緣體圍繞所述第三導電體設置為同心狀,
并且,在所述第二交叉部,所述第一絕緣體、所述第一半導體、所述第二絕緣體、所述第四導電體以及所述第四絕緣體圍繞所述第三導電體設置為同心狀。
2.根據(jù)權利要求1所述的半導體裝置,
其中所述第一方向與所述第二方向正交。
3.根據(jù)權利要求1所述的半導體裝置,
其中所述第一交叉部用作第一晶體管,
并且所述第二交叉部用作第二晶體管及電容器。
4.根據(jù)權利要求1所述的半導體裝置,
其中所述第一半導體為氧化物半導體。
5.根據(jù)權利要求4所述的半導體裝置,
其中所述氧化物半導體包含銦和鋅中的至少一個。
6.根據(jù)權利要求1所述的半導體裝置,
其中所述第二半導體為氧化物半導體。
7.根據(jù)權利要求6所述的半導體裝置,
其中所述氧化物半導體包含銦和鋅中的至少一個。
8.根據(jù)權利要求1所述的半導體裝置,用作NAND型存儲裝置。
9.一種電子設備,包括:
權利要求1所述的半導體裝置;以及
操作開關、電池以及顯示部中的至少一個。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社半導體能源研究所,未經(jīng)株式會社半導體能源研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011059595.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





