[發明專利]檢測設備及其檢測方法

在審

• 申請號: 202011058878.2
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112082602A
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 陳魯;王南朔;馬硯忠;張朝前;盧繼奎
• 申請（專利權）人: 深圳中科飛測科技有限公司
• 主分類號: G01D21/02
• 分類號: G01D21/02
• 代理公司: 上海知錦知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31327
• 代理人: 高靜

1.一種檢測設備，其特征在于，包括：

第一檢測裝置，包括：入射模塊，用于產生入射至待測物表面的第一探測光，所述第一探測光在所述待測物表面形成第一光斑，所述第一探測光經待測物之后形成第一出射光；出射模塊，用于收集所述第一出射光，并根據所述第一出射光獲取待測物表面待測膜層的厚度；

第二檢測裝置，包括：第二光源，用于產生入射至待測物表面的第二探測光，所述第二探測光在所述待測物表面形成第二光斑，所述第二探測光經待測物后形成第二出射光；第二探測組件，用于探測所述第二出射光，并根據第二出射光確定所述待測物的待測區內的應力，所述第二光斑與第一光斑至少部分重合。

2.根據權利要求1所述的檢測設備，其特征在于，所述待測區中具有位于所述待測物表面的待測膜層；

所述第二探測模塊用于根據所述第二出射光和所述第一檢測裝置獲取的待測膜層的厚度獲取所述待測膜層內的應力。

3.根據權利要求1所述的檢測設備，其特征在于，所述入射模塊包括：第一光源用于產生第一入射光；起偏組件，用于調節所述第一入射光的偏振態，并使所述第一入射光入射至待測物表面形成所述第一探測光；所述出射模塊包括：檢偏組件，用于調節所述第一出射光的偏振態形成第一信號光；第一探測組件，用于探測所述第一信號光，并根據所述第一信號光獲取待測物表面待測膜層的厚度；入射至所述待測物表面的第一探測光與從待測物出射的第一出射光之間具有非零夾角；

所述起偏組件被配置為繞所述第一入射光的傳播方向旋轉，和/或，所述檢偏組件被配置為繞所述第一出射光的傳播方向旋轉。

4.根據權利要求3所述的檢測設備，其特征在于，入射至所述待測物表面的第一探測光及自所述待測物出射的第一出射光均位于第一平面內；入射至所述待測物表面的第二探測光及自所述待測物出射的第二出射光均位于第二平面內，所述第一平面與第二平面垂直或具有銳角夾角；所述第二探測光和第二出射光分別位于所述第一平面兩側。

5.根據權利要求1～3任意一項所述的檢測設備，其特征在于，還包括：第三檢測模塊，所述第三檢測模塊包括：第三光源，用于產生入射至所述待測物表面的第三探測光，所述第三探測光在所述待測物表面形成第三光斑，所述第三探測光經待測物反射形成第三出射光，所述第三出射光用于形成第三信號光，入射至待測物表面的第一探測光與第一出射光分別位于入射至所述待測物表面的第三探測光兩側；第三探測組件，用于探測第三信號光，所述第三光斑與所述第一光斑至少部分重合。

6.根據權利要求5所述的檢測設備，其特征在于，所述第一探測光與第一出射光關于入射至所述待測物表面的第三探測光對稱。

7.根據權利要求5所述的檢測設備，其特征在于，入射至所述待測物表面的第一探測光及自所述待測物出射的第一出射光均位于第一平面內；所述第三檢測模塊還包括第一分束器；

所述第一分束器用于使所述第三光源發射的光束反射后形成所述第三探測光，且使所述第三出射光透射后形成所述第三信號光；或者，所述第一分束器用于使所述第三光源發射的光束透射后形成所述第三探測光，且使所述第三出射光反射后形成所述第三信號光。

8.根據權利要求7所述的檢測設備，其特征在于，所述檢測設備還包括：第四檢測模塊，所述第四檢測模塊包括：第四光源、第二分束器和第四探測組件，所述第四光源出射的光束經所述第二分束器反射后形成第四探測光，所述第四探測光經待測物反射形成第四出射光，所述第二分束器還用于使所述第四出射光反射后形成第四信號光，所述第四探測組件用于探測所述第四信號光；所述第二分束器還用于使所述第三出射光透過；

入射至待測物表面的所述第四探測光與所述第三探測光的中心軸平行，所述第四出射光經所述第二分束器反射后的光軸與所述第一平面垂直或具有銳角夾角。