[發(fā)明專利]一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置和方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011058392.9
• 申請(qǐng)日: 2020-09-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112178665A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭志敏;汪洋;顧明言
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安徽工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): F23J1/06
• 分類號(hào): F23J1/06;F23J3/02
• 代理公司: 安徽知問(wèn)律師事務(wù)所 34134
• 代理人: 于婉萍

1.一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置，其特征在于：包括高溫爐膛(4)、納米顆粒噴射系統(tǒng)和飛灰噴射系統(tǒng)，所述納米顆粒噴射系統(tǒng)和飛灰噴射系統(tǒng)分別用于向高溫爐膛(4)內(nèi)部噴射納米顆粒和微米飛灰，且其噴射方向相對(duì)設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置，其特征在于：所述的納米顆粒噴射系統(tǒng)包括納米顆粒噴管(5)及納米顆粒給料單元，所述的飛灰噴射系統(tǒng)包括飛灰顆粒噴管(6)及飛灰給料單元，納米顆粒噴管(5)及飛灰顆粒噴管(6)的出料端均伸入到高溫爐膛(4)內(nèi)部且對(duì)沖設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置，其特征在于：所述納米顆粒給料單元及飛灰給料單元均采用流化床給料裝置，且對(duì)應(yīng)的流化床給料裝置分別與納米顆粒噴管(5)及飛灰顆粒噴管(6)的進(jìn)料端相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置，其特征在于：所述的納米顆粒給料單元包括第一微型流化床(3)，第一微型流化床(3)通過(guò)第一柱塞泵(2)與第一混料裝置(1)相連，第一混料裝置(1)用于對(duì)納米顆粒和水進(jìn)行攪拌混合；所述飛灰給料單元包括第二微型流化床(7)，第二微型流化床(7)通過(guò)第二柱塞泵(8)與第二混料裝置(9)相連，第二混料裝置(9)用于對(duì)飛灰顆粒和水進(jìn)行攪拌混合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置，其特征在于：所述納米顆粒噴射系統(tǒng)和飛灰噴射系統(tǒng)均與噴吹氣體供應(yīng)單元相連。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置，其特征在于：所述噴吹氣體供應(yīng)單元包括空壓機(jī)(12)、流量控制裝置(11)和預(yù)熱裝置(10)，空壓機(jī)(12)輸出的氣體經(jīng)流量控制裝置(11)和預(yù)熱裝置(10)后分別輸送到納米顆粒噴射系統(tǒng)、飛灰噴射系統(tǒng)及高溫爐膛(4)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的一種基于撞擊流技術(shù)來(lái)調(diào)控飛灰沉積層的裝置，其特征在于：還包括積灰采樣單元、煙塵處理單元及監(jiān)測(cè)單元，其中，積灰采樣單元采用可控溫積灰采樣探針(13)，用于對(duì)爐膛內(nèi)部的沉積灰進(jìn)行采集；煙塵處理單元用于對(duì)高溫爐膛(4)產(chǎn)生的煙氣進(jìn)行冷凝、除塵和排放處理；監(jiān)測(cè)單元包括高速攝像機(jī)(17)，用于捕捉納米顆粒及微米飛灰顆粒的運(yùn)動(dòng)軌跡。

8.一種調(diào)控飛灰沉積層的方法，其特征在于：向高溫爐膛(4)內(nèi)部通入納米顆粒，使高堿燃煤飛灰的表面包覆納米顆粒。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種調(diào)控飛灰沉積層的方法，其特征在于：所述的納米顆粒采用SiO₂、Al₂O₃、TiO₂或高嶺土。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的一種調(diào)控飛灰沉積層的方法，其特征在于：通過(guò)撞擊流的方式使高堿燃煤飛灰的表面包覆納米顆粒。