[發(fā)明專利]一種激光熔覆不粘鍋及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011057569.3
• 申請(qǐng)日: 2020-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN112220331B
• 公開（公告）日: 2022-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉炳耀;陳健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 萬(wàn)事泰集團(tuán)（廣東）技術(shù)研究有限公司
• 主分類號(hào): A47J27/00
• 分類號(hào): A47J27/00;A47J36/02;C23C24/10;C22C30/02;C22C32/00;C22C29/12;C23C24/04;B05D1/02;B05D3/02;B05D7/24
• 代理公司: 深圳市精英專利事務(wù)所 44242
• 代理人: 李瑩

1.一種激光熔覆不粘鍋，包括鍋體，其特征在于，所述鍋體的內(nèi)表面由內(nèi)至外包括第一熔覆層、第二熔覆層及SiC涂層；

所述第一熔覆層的組成包括質(zhì)量分?jǐn)?shù)80-90％的Othello顆粒、10-20％的陶瓷顆粒；

所述第二熔覆層的組成包括質(zhì)量分?jǐn)?shù)10-20％的Othello顆粒、80-90％的陶瓷顆粒；

所述Othello顆粒由質(zhì)量分?jǐn)?shù)20-40％的鋁包鎳、20-40％的不銹鋼、10-30％的銀包銅、10-30％的氧化鈦組成；

其中，鋁包鎳由質(zhì)量百分?jǐn)?shù)鎳80-95％，鋁5-20％組成；不銹鋼為304不銹鋼或201不銹鋼；銀包銅由質(zhì)量百分?jǐn)?shù)銅70-95％，銀5-30％組成；

所述SiC涂層由以下重量份組分組成：

三甲氧基甲基硅烷10-30份；

異丙醇10-30份；

二氧化鈦5-10份；

乙醇1-5份；

三乙氧基甲基硅烷1-5份；

碳化硅1-5份；

1-甲氧基-2丙醇1-5份。

2.如權(quán)利要求1所述的激光熔覆不粘鍋，其特征在于，所述陶瓷顆粒包括氧化鋁、二氧化鋯、二氧化鈦；

所述Othello顆粒的粒徑為10-60μm；陶瓷顆粒的粒徑為10-60μm。

3.如權(quán)利要求1所述的激光熔覆不粘鍋，其特征在于，所述第二熔覆層與SiC涂層之間還設(shè)有過(guò)渡層。

4.如權(quán)利要求1所述的激光熔覆不粘鍋，其特征在于，所述鍋體的外表面設(shè)有節(jié)能層，厚度50-150μm。

5.如權(quán)利要求4所述的激光熔覆不粘鍋，其特征在于，以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計(jì)，所述節(jié)能層由以下成分組成：

鈦粉8-30％；鋯粉5-22％；鐵粉5-22％；銅粉8-20％；銻粉5-20％；錫粉5-11％；碳化硅粉0.5-1.5％。

6.如權(quán)利要求1所述的激光熔覆不粘鍋，其特征在于，所述鍋體的材質(zhì)為鋁、鐵、不銹鋼、銅、鈦、陶瓷中的任一種。

7.制造如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的激光熔覆不粘鍋的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、將清潔干凈的鍋體進(jìn)行噴砂處理；

S2、將鍋體加熱至220-280℃，依次進(jìn)行激光熔覆噴涂第一熔覆層、第二熔覆層；

S3、噴涂SiC涂層，將SiC涂料噴涂后，于380-440℃下烘烤5-10min，形成SiC涂層，厚度為10-40μm。

8.如權(quán)利要求7所述的激光熔覆不粘鍋的制造方法，其特征在于，所述步驟S2和S3之間，還包括：

待第二熔覆層噴涂完成后，在第二熔覆層上涂覆改性樹脂涂料，并在120-280℃下烘烤5-10min，形成厚度為3-5μm的過(guò)渡層。

9.如權(quán)利要求7所述的激光熔覆不粘鍋的制造方法，其特征在于，所述步驟S3之后還包括噴涂節(jié)能層。