[發(fā)明專利]傳感器元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011056960.1 | 申請日: | 2020-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN112649139B | 公開(公告)日: | 2022-12-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 德田智久;米田雅之;東條博史;津島鲇美;木田希 | 申請(專利權(quán))人: | 阿自倍爾株式會社 |
| 主分類號: | G01L9/00 | 分類號: | G01L9/00;G01L13/02;G01L13/06;G01L19/04 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本東京都千*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 傳感器 元件 | ||
1.一種傳感器元件,其包括傳感器芯片和與該傳感器芯片的一面接合的膜片基底,該傳感器元件的特征在于,
所述傳感器芯片具備:
第1壓力與第2壓力的差壓測量用的第1膜片;
所述第2壓力的絕對壓力測量用或者表壓測量用的第2膜片;
第1壓力導(dǎo)入通路,其將所述第1壓力傳遞至所述第1膜片;以及
第2壓力導(dǎo)入通路,其將所述第2壓力傳遞至所述第1膜片和所述第2膜片,
所述膜片基底具備:
第3膜片,其直接承受具有所述第1壓力的測量對象的流體;
第4膜片,其直接承受具有所述第2壓力的測量對象的流體;
第3壓力導(dǎo)入通路,其與所述第1壓力導(dǎo)入通路連通,將所述第3膜片所承受的所述第1壓力傳遞至所述第1壓力導(dǎo)入通路以及所述第1膜片;以及
第4壓力導(dǎo)入通路,其與所述第2壓力導(dǎo)入通路連通,將所述第4膜片所承受的所述第2壓力傳遞至所述第2壓力導(dǎo)入通路以及所述第2膜片,
所述傳感器芯片還具備:
基準(zhǔn)室,其配設(shè)于傳遞所述第2壓力的所述絕對壓力測量用或者表壓測量用的第2膜片的與第1主面相反一側(cè)的第2主面;以及
第5膜片,其被配設(shè)成隔著所述基準(zhǔn)室而與所述絕對壓力測量用或者表壓測量用的第2膜片對置,
所述第1壓力導(dǎo)入通路將所述第1壓力傳遞至所述第5膜片的與和所述基準(zhǔn)室相向的第1主面相反一側(cè)的第2主面,
第1壓力傳遞介質(zhì)封入于所述第1壓力導(dǎo)入通路至所述第3壓力導(dǎo)入通路,第2壓力傳遞介質(zhì)封入于所述第2壓力導(dǎo)入通路至所述第4壓力導(dǎo)入通路,所述第1壓力傳遞介質(zhì)能夠?qū)⑺龅?壓力傳遞至所述第1膜片,所述第2壓力傳遞介質(zhì)能夠?qū)⑺龅?壓力傳遞至所述第1膜片和所述第2膜片,且
在將所述第1壓力傳遞介質(zhì)以及所述第2壓力傳遞介質(zhì)的移動量通過電荷模型化、將所述第1壓力傳遞介質(zhì)以及所述第2壓力傳遞介質(zhì)的流速通過電流模型化、將所述第1壓力和所述第2壓力通過電壓模型化、將所述第1膜片~所述第5膜片的柔度通過電容模型化,將所述第1壓力導(dǎo)入通路~所述第4壓力導(dǎo)入通路的流路阻抗通過電阻模型化、利用等效電路表示所述第1壓力、所述第2壓力向所述第1膜片、所述第2膜片以及所述第5膜片的傳遞時,所述第1壓力的傳遞路徑與所述第2壓力的傳遞路徑對稱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳感器元件,其特征在于,
充滿于所述第1壓力導(dǎo)入通路的所述第1壓力傳遞介質(zhì)的量與充滿于所述第2壓力導(dǎo)入通路的所述第2壓力傳遞介質(zhì)的量相同。
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