[發明專利]一種PX氧化反應水濃度控制方法

有效

• 申請號: 202011056639.3
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112445247B
• 公開（公告）日: 2023-01-10
• 發明（設計）人: 王海寧;鄭信春;金曉明;江鳳月
• 申請（專利權）人: 浙江中控軟件技術有限公司
• 主分類號: G05D11/13
• 分類號: G05D11/13
• 代理公司: 杭州華鼎知識產權代理事務所(普通合伙) 33217
• 代理人: 項軍

1.一種PX氧化反應水濃度控制方法，其特征在于，包括：

建立溶劑脫水塔回流量對溶劑脫水塔溫差、PX氧化反應水濃度的控制回路數學模型，其中溶劑脫水塔溫差控制優先級高于PX氧化反應水濃度；

利用控制回路數學模型對溶劑脫水塔溫差的定值控制以保證PX氧化反應水濃度趨勢平穩，并根據溶劑脫水塔溫差移動策略調節溶劑脫水塔溫差以消除PX氧化反應水濃度實際值與設定值的余差；

根據某PX氧化反應工藝流程的特點建立控制回路數學模型，所述控制回路數學模型的輸入變量包括操縱變量和干擾變量，輸出變量為相應的被控變量；所述操縱變量包括優先級、溶劑脫水塔回流量；所述干擾變量包括反應器溫度、PX負荷、反應器空氣總量、過濾機洗液量、溶劑脫水塔壓差；輸出變量包括溶劑脫水塔溫差、反應器水濃度；優先級表示相應被控變量在先進控制器中的優先級別，級別越高則越優先保證該變量；

所述溶劑脫水塔溫差移動策略包括：

當系統穩定且當PX氧化反應水濃度實際值與設定值的余差大于零時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定+補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值；當PX氧化反應水濃度實際值與設定值的余差小于零時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定-補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值；

當系統穩定且當PX氧化反應水濃度設定值增大時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定-補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值；當PX氧化反應水濃度設定值減小時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定+補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值。

2.根據權利要求1所述的一種PX氧化反應水濃度控制方法，其特征在于，還包括在建立控制回路數學模型后，確定相應的控制參數。

3.根據權利要求2所述的一種PX氧化反應水濃度控制方法，其特征在于，所述在建立控制回路數學模型后，確定相應的控制參數包括：

確定溶劑脫水塔回流量的操作上限、操作下限、最大優化增量、最小優化增量、最大控制增量、最小控制增量、平滑系數；

確定反應器溫度、PX負荷、反應器空氣總量、過濾機洗液量、溶劑脫水塔壓差的工程上限、工程下限、增量上限、增量下限、濾波方法、滑動平均濾波點數；

確定溶劑脫水塔溫差、反應器水濃度的操作上限、操作下限、最大優化增量、最小優化增量、設定值上限等級、設定值下限等級、閉環參考時間。

4.根據權利要求1所述的一種PX氧化反應水濃度控制方法，其特征在于，所述根據溶劑脫水塔溫差移動策略調節溶劑脫水塔溫差以消除PX氧化反應水濃度實際值與設定值的余差包括：

當PX氧化反應水濃度實際值與設定值的余差大于零時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定+補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值；

當PX氧化反應水濃度實際值與設定值的余差小于零時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定-補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值。

5.根據權利要求1所述的一種PX氧化反應水濃度控制方法，其特征在于，所述根據溶劑脫水塔溫差移動策略調節溶劑脫水塔溫差以消除PX氧化反應水濃度實際值與設定值的余差包括：

當PX氧化反應水濃度設定值增大時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定-補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值；

當PX氧化反應水濃度設定值減小時，計算溶劑脫水塔溫差設定：補償值＝余差*系數，溫差設定值＝溫差設定+補償值，并調節溶劑脫水塔溫差至溫差設定值。