[發明專利]一種低光澤度高耐污染性復合釉、使用該復合釉的花崗巖瓷質磚及其制備方法

有效

• 申請號: 202011056439.8
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN112225454B
• 公開（公告）日: 2022-03-15
• 發明（設計）人: 張松竹;尹偉;吳文武;陳琴云
• 申請（專利權）人: 廣東清遠蒙娜麗莎建陶有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C04B41/89
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;牛彥存

1.一種低光澤度高耐污染性復合釉，其特征在于，所述復合釉包括：以重量份計，啞光保護釉20～50份、砂巖干粒40～80份和印油80～120份；所述啞光保護釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：36～46%、Al₂O₃：10～14.1%、BaO：21.1～27.2%、堿金屬氧化物3.6～6.4%；所述砂巖干粒的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：43.5～47.6%，Al₂O₃：21.1～23.8%，CaO：16.1～18.2%、堿金屬氧化物：3.9～6.7%。

2.根據權利要求1所述的復合釉，其特征在于，所述啞光保護釉的化學組成還包括：以質量百分比計，CaO：0.8～1.6%、MgO：3.0～4.2%、ZnO：2.6～6%、燒失：7.2～9.8%。

3.根據權利要求1所述的復合釉，其特征在于，所述砂巖干粒的化學組成還包括：以質量百分比計，MgO：0.6～1.3%、ZnO：6.3～8.3%、BaO：2～3%。

4.根據權利要求1所述的復合釉，其特征在于，所述啞光保護釉的比重為1.7～1.95 g/cm³，燒成后的光澤度在5°以內。

5.根據權利要求1所述的復合釉，其特征在于，所述砂巖干粒的顆粒級配包括：以質量百分比計，120～150目：15～35%，150～250目：30～60%，250目以下：20～40%。

6.根據權利要求1所述的復合釉，其特征在于，所述啞光保護釉和砂巖干粒的質量比為1：（1～4）。

7.花崗巖瓷質磚的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：在坯體表面依次施面釉、噴墨打印圖案、施權利要求1至6中任一項所述的低光澤度高耐污染性復合釉、燒成，即得花崗巖瓷質磚。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述低光澤度高耐污染性復合釉的施加方式為噴釉，比重為1.2～1.5g/cm³，施加量為200～400 g/m²。

9.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，最高燒成溫度為1150～1190℃，燒成時間為50～80min。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的制備方法獲得的花崗巖瓷磚，其特征在于，所述花崗巖瓷磚具有砂巖質感，光澤度在4°以內，耐污染性等級5級。