[發(fā)明專利]一種高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011056138.5
• 申請(qǐng)日: 2020-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN112207445A
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳子明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳光韻達(dá)激光應(yīng)用技術(shù)有限公司;吳子明;曹漢宜
• 主分類號(hào): B23K26/362
• 分類號(hào): B23K26/362;B23K26/60;B23K26/70;H05K3/02;B23K101/42
• 代理公司: 深圳正和天下專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44581
• 代理人: 楊波

本發(fā)明提供一種高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝，包括以下步驟，S1：預(yù)備用于進(jìn)行蝕刻加工處理的金屬材料，對(duì)該金屬材料的表面進(jìn)行清潔處理S2：在上述預(yù)備的金屬材料層表面貼附或涂覆一層抗蝕刻膜層或膠帶層；S3：進(jìn)行激光加工刻蝕處理；利用激光光束刻蝕去除部分預(yù)設(shè)的待刻蝕金屬材料，形成激光槽孔；S4：采用激光進(jìn)行刻蝕處理的過(guò)程中，對(duì)所述抗蝕刻膜層或膠帶層進(jìn)行局部去除處理，用于后續(xù)進(jìn)行再次刻蝕圖形，利用在平面的材料上，透過(guò)事先局部加工好槽孔，方便在藥水蝕刻時(shí)，藥水更容易的進(jìn)入材料的中間，從材料的中間與表面同步刻蝕，降低傳統(tǒng)蝕刻，只能從材料的表面蝕刻，從而導(dǎo)致嚴(yán)重的側(cè)蝕現(xiàn)象。

[技術(shù)領(lǐng)域]

本發(fā)明涉及線路板蝕刻加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種應(yīng)用效果突出的高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝。

[背景技術(shù)]

傳統(tǒng)的精密器件蝕刻，因?yàn)椤八巍毙?yīng)造成，產(chǎn)品的厚度越厚，其蝕刻的精度越低，其加工產(chǎn)品的側(cè)壁的錐度越大，側(cè)蝕的現(xiàn)象越明顯，不能滿足現(xiàn)代產(chǎn)品的精度要求。

怎樣才能有效的減少傳統(tǒng)濕制層的污染程度，減少清潔水，藥水，化學(xué)品的使用量，蝕刻干膜，顯影，等化學(xué)品等水制層的污染，是本領(lǐng)域技術(shù)人員經(jīng)常考慮的問(wèn)題，也進(jìn)行了大量的研發(fā)與實(shí)驗(yàn)，并取得了較好的成績(jī)。

[發(fā)明內(nèi)容]

為克服現(xiàn)有技術(shù)所存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供一種應(yīng)用效果突出的高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝。

本發(fā)明解決技術(shù)問(wèn)題的方案是提供一種高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝，包括以下步驟，

S1：預(yù)備用于進(jìn)行蝕刻加工處理的金屬材料，對(duì)該金屬材料的表面進(jìn)行清潔處理；

S2：在上述預(yù)備的金屬材料層表面貼附或涂覆一層抗蝕刻膜層或膠帶層；

S3：進(jìn)行激光加工刻蝕處理；利用激光光束刻蝕去除部分預(yù)設(shè)的待刻蝕金屬材料，形成激光槽孔；

S4：采用激光進(jìn)行刻蝕處理的過(guò)程中，對(duì)所述抗蝕刻膜層或膠帶層進(jìn)行局部去除處理，用于后續(xù)進(jìn)行再次刻蝕圖形；

S5：將刻蝕完成的金屬材料層放入常規(guī)線路板、金屬蝕刻線體，獲得預(yù)設(shè)的蝕刻面積和蝕刻體積；

S6：退膜，去膜，清洗；獲得最終的蝕刻加工成品。

優(yōu)選地，所述步驟S2中的抗蝕刻膜層為干膜、抗蝕刻膜或油墨材料；所述膠帶層為高溫膠帶。

優(yōu)選地，所述步驟S3中的槽孔為半刻的盲槽孔或刻穿的通槽孔；且保證利用所述激光光束刻蝕的槽孔面積為產(chǎn)品最終需要刻蝕掉面積與體積的20％-80％。

優(yōu)選地，所述步驟S3中進(jìn)行激光雕刻處理的激光器為波長(zhǎng)范圍為492nm-577nm之間的綠光光源激光器、波長(zhǎng)范圍為300nm-400nm之間的UV紫光光源激光器、波長(zhǎng)范圍為200nm-299nm之間的UV深紫光光源激光器或者是波長(zhǎng)范圍為10nm-199nm之間的極紫外光源激光器。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明一種高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝?yán)迷谄矫娴牟牧仙希高^(guò)事先局部加工好槽孔，方便在藥水蝕刻時(shí)，藥水更容易的進(jìn)入材料的中間，從材料的中間與表面同步刻蝕，降低傳統(tǒng)蝕刻，只能從材料的表面蝕刻，從而導(dǎo)致嚴(yán)重的側(cè)蝕現(xiàn)象。

[附圖說(shuō)明]

圖1是本發(fā)明一種高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝的流程示意圖。

[具體實(shí)施方式]

為使本發(fā)明的目的，技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用于解釋本發(fā)明，并不用于限定此發(fā)明。

請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明一種高縱橫比精密蝕刻器件加工工藝1包括以下步驟，