[發明專利]一種標準單元庫的指標分析方法及裝置有效
| 申請號: | 202011055695.5 | 申請日: | 2020-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN112149380B | 公開(公告)日: | 2023-05-12 |
| 發明(設計)人: | 陳權 | 申請(專利權)人: | 海光信息技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/398 | 分類號: | G06F30/398;G06F30/33;G06F119/06 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 蔣姍 |
| 地址: | 300450 天津市濱海新區華苑產*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 標準 單元 指標 分析 方法 裝置 | ||
本申請提供一種標準單元庫的指標分析方法及裝置。方法包括獲取待分析的標準單元庫對應的屬性信息文件和第一使用統計信息;待分析的標準單元庫包括多個類型的標準單元;第一使用統計信息包括各標準單元對應的數量占比、布局布線后的面積使用率和目標路徑對應的邏輯級數;對屬性信息文件進行特征提取,獲得各標準單元對應的多個第一屬性信息;根據各標準單元對應的第一屬性信息和第一使用統計信息對待分析的標準單元庫進行分析,獲得待分析的標準單元庫對應的第一指標特征。本申請實施例通過在設計階段,根據第一指標特征反映待分析的標準單元庫的指標,不需要生產出對應的產品,從而縮短了研發的周期,提高了研發的效率。
技術領域
本申請涉及集成電路技術領域,具體而言,涉及一種標準單元庫的指標分析方法及裝置。
背景技術
標準單元庫是支持數字集成電路設計自動化流程的基礎數據之一,標準單元庫從前端功能仿真到后端版圖實現支撐著整個集成電路自動化設計流程。
在集成電路設計中,在產品的初期研發階段,需要對新研發的標準單元庫的相關指標進行評估,以分析產品在生產出來后可能具備的性能、功耗和面積等情況。現有技術中,往往是在將產品生產出來后,利用測試用例對產品進行測試,從而獲得對應的指標。如果指標沒有達到預期,則需要重新返回至設計階段,重新對標準單元庫進行設計,直至測試獲得生產出的產品的指標符合預期為止。因此,若要獲得合格的產品,則至少需要經過設計、生產、測試三個階段,這將導致研發周期長、研發效率低的問題。
發明內容
本申請實施例的目的在于提供一種標準單元庫的指標分析方法及裝置,用以解決現有技術中研發周期長、研發效率低的問題。
第一方面,本申請實施例提供一種標準單元庫的指標分析方法,包括:獲取待分析的標準單元庫對應的屬性信息文件和第一使用統計信息;其中,所述待分析的標準單元庫包括多個類型的標準單元;所述第一使用統計信息包括各標準單元對應的數量占比、布局布線后的面積使用率和目標路徑對應的邏輯級數;對所述屬性信息文件進行特征提取,獲得各標準單元對應的多個第一屬性信息;根據各標準單元對應的第一屬性信息和第一使用統計信息對待分析的標準單元庫進行分析,獲得所述待分析的標準單元庫對應的第一指標特征;所述第一指標特征包括第一面積指標特征、第一功耗指標特征和第一性能指標特征。
本申請實施例通過在設計階段,根據各標準單元對應的第一屬性信息和第一使用統計信息對待分析的標準單元庫進行分析,獲得待分析的標準單元庫對應的第一指標特征,從而根據第一指標特征反映待分析的標準單元庫的指標,不需要生產出對應的產品,從而縮短了研發的周期,提高了研發的效率。
進一步地,所述第一屬性信息包括標準單元對應的面積;根據各標準單元對應的第一屬性信息和對應的第一使用統計信息對待分析的標準單元庫進行分析,獲得所述待分析的標準單元庫對應的第一面積指標特征,包括:根據所述標準單元對應的面積、所述標準單元對應的數量占比和布局布線后的面積使用率,獲得所述待分析的標準單元庫對應的第一面積指標特征。
本申請實施例中,由于集成電路中,面積越小、實現的功能越多表征該集成電路的集成度越高,因此,通過利用標準單元對應的面積以及面積使用率計算獲得待分析的標準單元庫對應的第一面積指標,可以用來反映出待分析的標準單元庫的面積占用情況。
進一步地,所述根據所述標準單元對應的面積、所述標準單元對應的數量占比和布局布線后的面積使用率,獲得所述待分析的標準單元庫對應的第一面積指標特征,包括:根據公式計算獲得待分析的標準單元庫對應的第一面積指標特征;其中,Area為所述待分析的標準單元庫對應的第一面積指標特征;為第i個標準單元對應的面積;ki為第i個標準單元對應的數量占比;n為標準單元的類型總數,n和i為均正整數,且1≤i≤n;PA為布局布線后的面積使用率。
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