[發明專利]一種基于5乘5模塊均勻歸一化模板的圖像邊緣提取方法及系統在審
| 申請號： | 202011054399.3 | 申請日： | 2020-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN112508980A | 公開（公告）日： | 2021-03-16 |
| 發明（設計）人： | 向佐勇 | 申請（專利權）人： | 中南林業科技大學 |
| 主分類號： | G06T7/13 | 分類號： | G06T7/13;G06T7/136 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 410004 *** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 模塊 均勻 歸一化 模板 圖像 邊緣 提取 方法 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種圖像邊緣提取方法，其特征在于，利用掩模計算周圍像素對中心像素的影響份量，然后從中心像素中減掉影響份量，得到初始的圖像邊緣。
2.一種圖像邊緣提取方法，其特征在于，在得到初始邊緣時進行掩膜計算，八個鄰域的系數是均勻歸一化的。
3.一種圖像邊緣提取方法，其特征在于，除了圖像邊緣的像素置零外，中間的像素的初步輸出結果為如下形式：其中其中A(i，j)為當前5X5模塊中心像素，Yj為A(i，j)的直接8鄰域，Zi為A(i，j)的間接16鄰城，V(i，j)為最終生成的第i行，第j列的像素，a為常數，a＝0.104。
4.一種圖像邊緣提取方法，其特征在于對初始生成的邊緣圖像進行二值化處理，低于閾值的像素置零，高于閾值的像素置1；然后對二值化的邊緣圖像V進行形態處理，即bwareaopen(V，erse_size)，將孤立點或包圍面積過小的點擦除，抹掉過細的邊緣，留下主要的邊緣。
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