[發明專利]一種激光干涉儀

有效

• 申請號: 202011053058.4
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN112146563B
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發明（設計）人: 蘇炎;李昱;陳居凱
• 申請（專利權）人: 蘇州眾為光電有限公司
• 主分類號: G01B9/02015
• 分類號: G01B9/02015;G02B5/30;G02B27/28
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理有限公司 11369
• 代理人: 孔凡玲

1.一種激光干涉儀，其特征在于，包括激光發生器、調整裝置、第一分光鏡、第一角錐反射鏡、第二角錐反射鏡、第二分光鏡、壓縮透鏡、接收器、檢測裝置；

其中，第一分光鏡為偏振分光鏡，所述偏振分光鏡包括基層和堆疊在基層上的膜系，所述膜系的膜系結構包括第一膜堆、第二膜堆及第三膜堆，每個所述膜堆均由非四分之一波長光學厚度的高折射率膜層和低折射率膜層交替堆疊；所述第一膜堆與第三膜堆的順序可調換；第一膜堆采用(aHbL)^m的初始結構；第二膜堆采用((aHbL)^p(cHdL)^q)^r的初始結構；第三膜堆采用(cHdL)^n；

或，第一膜堆采用(cHdL)^n的初始結構；第二膜堆采用((aHbL)^p(cHdL)^q)^r的初始結構；第三膜堆采用(aHbL)^m；

或，第一膜堆采用(aHbL)^m的初始結構；第二膜堆采用((cHdL)^q(aHbL)^p)^r的初始結構；第三膜堆采用(cHdL)^n；

或，第一膜堆采用(cHdL)^n的初始結構；第二膜堆采用((cHdL)^q(aHbL)^p)^r的初始結構；第三膜堆采用(aHbL)^m；

其中，m為aHbL的序列重復交替堆疊的組數，r為(aHbL)^p(cHdL)^q的序列重復交替堆疊的組數，p為第二膜堆中aHbL的序列重復交替堆疊的組數，q為第二膜堆中cHdL的序列重復交替堆疊的組數，n為cHdL的序列重復交替堆疊的組數；

H表示四分之一中心波長光學厚度的高折射率膜層，L表示四分之一中心波長光學厚度的低折射率膜層；a、b、c、d為四分之一中心波長光學厚度系數；

所述激光發生器發出的激光經調整裝置后進入所述第一分光鏡，所述第一分光鏡將激光分為參考光和測量光，參考光經所述第一角錐反射鏡反射后出射，測量光經第二角錐反射鏡反射后出射，兩束光經所述第一分光鏡反射后匯合成集合光束，進入第二分光鏡；集合光束經所述第二分光鏡分成第一分光束和第二分光束，第一分光束經所述壓縮透鏡壓縮后傳送至所述接收器，用于位置測量，第二分光束投影到所述檢測裝置，用來觀測參考光斑和測量光斑的重合度，根據參考光斑和測量光斑調整所述調整裝置。

2.如權利要求1的激光干涉儀，其特征在于，所述四分之一中心波長光學厚度系數a和b所在的范圍為0.8至0.96，a和b為相等或不相等。

3.如權利要求1的激光干涉儀，其特征在于，m、p、q、r均大于1。

4.如權利要求1的激光干涉儀，其特征在于，所述四分之一中心波長光學厚度系數c和d所在的范圍為1.04至1.2，c和d為相等或不相等。

5.如權利要求1的激光干涉儀，其特征在于，所述高折射率膜層的材料為Ta2O5、Nb2O5、TiO2中的至少之一，所述高折射率膜層的折射率在1550nm的范圍為1.85至2.5。

6.如權利要求1的激光干涉儀，其特征在于，所述低折射率膜層的材料為SiO2、Al2O3、MgF2中的至少之一，所述低折射率膜層的折射率在1550nm的范圍為1.38至1.6。

7.如權利要求1的激光干涉儀，其特征在于，所述基層為二氧化硅材料或硅材料基片，基層的折射率在1550nm的范圍為1.45至3.5。

8.如權利要求1的激光干涉儀，其特征在于，所述第一分光鏡的P偏振的透過率大于等于百分之九十的波段范圍的寬度大于等于中心波長的百分之十，或P偏振的半峰全寬大于等于中心波長的百分之十。

9.如權利要求5的激光干涉儀，其特征在于，所述第一分光鏡的S偏振的的透過率小于百分之十的波段范圍大于中心波長的百分之十。