[發明專利]氧化鋯種植體生物涂層制備方法及氧化鋯種植體

有效

• 申請號: 202011051656.8
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN112274692B
• 公開（公告）日: 2023-06-09
• 發明（設計）人: 張相皞;趙杰
• 申請（專利權）人: 嘉興市京吟生物科技有限公司
• 主分類號: A61L27/02
• 分類號: A61L27/02;A61L27/30;A61L27/50;A61L27/56;A61C8/00;C04B35/48;C04B35/622;B24C1/00
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 董琳

1.一種氧化鋯種植體生物涂層制備方法，其特征在于，包括：

采用噴砂機對預處理后的氧化鋯種植體的表面進行噴砂粗化處理，得到表面粗糙的氧化鋯種植體；

將表面粗糙的氧化鋯種植體部分置于微米級的氧化鋯懸浮液中浸泡第一預設時間后取出，再置于燒結爐中燒結，得到表面呈凹凸多孔結構的氧化鋯種植體；

采用超音速等離子噴涂法將二氧化鋯顆粒噴涂至表面呈凹凸多孔結構的氧化鋯種植體的表面，制得微納結構的生物涂層；

其中，在采用超音速等離子噴涂法在表面呈凹凸多孔結構的氧化鋯種植體的表面噴涂二氧化鋯顆粒時，噴涂功率為：50?KW?—75?KW，電壓為：240V?—280V?，二氧化鋯顆粒的速度為600m/s—900m/s；

同時，在進行二氧化鋯顆粒的噴涂時，噴嘴垂直于氧化鋯種植體的表面，且距離氧化鋯種植體的表面200mm—250mm，噴涂機所噴出的二氧化鋯顆粒的氣體流量為：0.7m³/h；

在對氧化鋯種植體的表面噴涂二氧化鋯顆粒的過程中，氧化鋯種植體在噴涂過程中旋轉；

其中，氧化鋯種植體在噴涂過程中的旋轉速率為20°/s—60°/s?，噴涂時間則為：20s—35s。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，采用噴砂機對預處理后的氧化鋯種植體的表面進行噴砂粗化處理時，噴砂機的工作氣壓為0.4?Mpa—0.7Mpa；噴砂顆粒為氧化鋁顆粒，所述氧化鋁顆粒的直徑為10微米—200微米；所述噴砂機的噴嘴垂直于所述氧化鋯種植體的表面，并距離所述氧化鋯種植體的表面1cm—2cm。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，采用噴砂機對預處理后的氧化鋯種植體的表面進行噴砂粗化處理時，控制所述氧化鋯種植體自轉。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，將表面粗糙的氧化鋯種植體部分置于微米級的氧化鋯懸浮液中浸泡時，微米級的所述氧化鋯懸浮液中，氧化鋯微粉的濃度為0.01wt%—1.0wt%。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，微米級的所述氧化鋯懸浮液中，所述氧化鋯微粉的濃度為0.5wt%。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，將表面粗糙的氧化鋯種植體部分置于微米級的氧化鋯懸浮液中浸泡時，所述第一預設時間的取值范圍為：5s—10s；

其中，將表面粗糙的氧化鋯種植體由所述氧化鋯懸浮液中取出后，對浸泡后的氧化鋯種植體進行擺動并自然晾干；

其中，晾干時間為：1小時—2小時。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，將表面粗糙的氧化鋯種植體部分置于微米級的氧化鋯懸浮液中浸泡第一預設時間后取出置于燒結爐中燒結時，燒結溫度為：1500℃—1700℃，燒結時間為0.5小時—1.5小。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，采用超音速等離子噴涂法將二氧化鋯顆粒噴涂至表面呈凹凸多孔結構的氧化鋯種植體的表面時，噴涂功率為：65KW，電壓為260V；

噴嘴垂直于所述氧化鋯種植體的表面，且距離所述氧化鋯種植體的表面200mm；

所述氧化鋯種植體在噴涂過程中旋轉，旋轉速率為50°/s；

噴涂時間為：30s。

9.根據權利要求1至8任一項所述的方法，其特征在于，所述氧化鋯種植體的預處理包括：將所述氧化鋯種植體依次置于無水乙醇和去離子水中進行超聲波清洗后，再置于鼓風干燥箱進行干燥；

其中，所述氧化鋯種植體在所述無水乙醇中超聲波清洗20s—30s，在所述去離子水中超聲波清洗10s—20s，在所述鼓風干燥箱中干燥3小時—5小時，干燥溫度為50℃—60℃；

其中，在得到表面呈凹凸多孔結構的氧化鋯種植體后，對表面呈凹凸多孔結構的氧化鋯種植體進行二氧化鋯顆粒噴涂之前，還包括：

采用氣槍將表面呈凹凸多孔結構的氧化鋯種植體的表面殘余的粉末吹除。

10.一種氧化鋯種植體，其特征在于，包括種植體本體和附著在所述種植體本體的表面上的生物涂層；

其中，所述生物涂層采用權利要求1至9任一項所述的氧化鋯種植體生物涂層制備方法制備得到。