[發(fā)明專利]一種多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS2的系統(tǒng)及方法

在審

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• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN112237838A
• 公開（公告）日: 2021-01-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫浩;韓正昌;馬軍軍;朱家明;張壽兵;周嘯
• 申請（專利權(quán)）人: 南京格洛特環(huán)境工程股份有限公司
• 主分類號: B01D53/86
• 分類號: B01D53/86;B01D53/48;B01D53/44;C01D5/00
• 代理公司: 南京眾聯(lián)專利代理有限公司 32206
• 代理人: 雷夕娟

1.一種多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，包括引風(fēng)機(jī)、至少一個復(fù)相催化氧化塔，每個復(fù)相催化氧化塔對應(yīng)一個風(fēng)機(jī)；

所述的引風(fēng)機(jī)通過進(jìn)氣管道與復(fù)相催化氧化塔的側(cè)面底端連接，所述的復(fù)相催化氧化塔的頂端設(shè)置廢氣出口，所述的廢氣出口通過管道與下一個復(fù)相催化氧化塔的側(cè)面底端連接；

所述的復(fù)相催化氧化塔內(nèi)設(shè)兩塊填料支撐，每層支撐上鋪設(shè)吸附填料；塔底設(shè)置臭氧加藥口，并設(shè)置氧化劑儲液罐，復(fù)配氧化劑儲液罐與循環(huán)泵連接，循環(huán)泵通過管道與安裝在復(fù)相催化氧化塔側(cè)壁上端、位于填料上方的噴頭連接；

所述的復(fù)相催化氧化塔為獨(dú)立單元，包括但不限于兩級聯(lián)用，可單獨(dú)或多級組合聯(lián)用。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，包括兩個聯(lián)用的復(fù)相催化氧化塔，采用兩級聯(lián)用可滿足大部分廢氣處理需求。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，所述的臭氧加藥口通過管道與臭氧發(fā)生器連接，為復(fù)相催化氧化塔連續(xù)不斷的提供臭氧。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，復(fù)相催化氧化塔進(jìn)氣濃度不得大于50mg/m³。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，復(fù)相催化氧化塔所用的復(fù)配氧化劑為氫氧化鉀、氫氧化鈉和雙氧水中的一種或幾種，其中雙氧水濃度為0.5%~5%，pH控制范圍為8~14。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，復(fù)配氧化劑為氫氧化鉀、氫氧化鈉、過硫酸鈉和過硫酸鉀的一種或幾種，其中過硫酸鹽濃度為0.3~3 mol/L，pH控制范圍為8~14。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，所述填料包括但不限于活性炭、硅膠、碳纖維和分子篩 。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，復(fù)相催化氧化塔進(jìn)氣濃度為20~30 mg/m³。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，其特征在于，復(fù)相催化氧化塔中雙氧水和氫氧化鈉作為復(fù)配氧化劑，雙氧水有效濃度為1%，最佳pH為12。

10.一種多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的方法，其特征在于，采用權(quán)利要求1-7所述的多相催化氧化技術(shù)深度處理低濃度CS₂的系統(tǒng)，具體包括如下步驟：低濃度廢氣經(jīng)引風(fēng)機(jī)送至一級復(fù)相催化氧化塔，完成CS₂的預(yù)氧化，再送至二級復(fù)相催化氧化塔，經(jīng)復(fù)相氧化去除殘余CS₂，最后經(jīng)風(fēng)機(jī)達(dá)標(biāo)排放；噴淋液循環(huán)液飽和后經(jīng)蒸發(fā)結(jié)晶制備硫酸鹽副產(chǎn)品。