[發(fā)明專(zhuān)利]光學(xué)檢測(cè)設(shè)備與光學(xué)檢測(cè)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011047647.1
• 申請(qǐng)日: 2020-09-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113125343A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 古振男;曹凱翔;張祥毅;李岳龍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 由田新技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01N21/01
• 分類(lèi)號(hào): G01N21/01;G01N21/95
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 張娜;臧建明

1.一種光學(xué)檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，用以檢測(cè)待測(cè)物，所述光學(xué)檢測(cè)設(shè)備包括：

平臺(tái)，所述待測(cè)物適于承載在所述平臺(tái)上；

至少一側(cè)光源，提供平行光行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的至少一表面；

取像單元，朝向所述待測(cè)物的方向，以獲取所述待測(cè)物的圖像；以及

圖像處理單元，電性連接所述取像單元以接收所述待測(cè)物的圖像從而評(píng)估所述待測(cè)物的表面質(zhì)量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述平行光平行且接觸所述至少一表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述至少一表面包括相對(duì)的上表面以及下表面，而所述至少一側(cè)光源包括第一側(cè)光源以及第二側(cè)光源，分別提供平行光以行經(jīng)且貼近所述上表面以及所述下表面，以使所述取像單元獲取所述待測(cè)物的所述上表面以及所述下表面的圖像。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，還包括反射組件，設(shè)置在所述平臺(tái)上，所述第一側(cè)光源提供平行光直接行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的所述上表面，所述第二側(cè)光源提供平行光通過(guò)所述反射組件反射后行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的所述下表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，還包括框架，設(shè)置在所述平臺(tái)上，且所述框架呈鏤空而承載所述待測(cè)物的所述下表面，所述框架具有開(kāi)口，所述第二側(cè)光源的平行光通過(guò)所述開(kāi)口進(jìn)入所述框架而行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的所述下表面，所述開(kāi)口朝向所述第一側(cè)光源。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，所述框架呈L形，所述開(kāi)口同時(shí)朝向所述第一側(cè)光源以及所述第二側(cè)光源，所述第一側(cè)光源以及所述第二側(cè)光源其中之一的平行光通過(guò)所述開(kāi)口進(jìn)入所述框架而行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的所述下表面。

7.一種光學(xué)檢測(cè)方法，其特征在于，適用于光學(xué)檢測(cè)設(shè)備，以對(duì)待測(cè)物的至少一表面進(jìn)行檢測(cè)，所述光學(xué)檢測(cè)方法包括：

放置所述待測(cè)物在所述光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的平臺(tái)；

提供至少一平行光行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的所述至少一表面，并以取像單元獲取所述至少一表面的檢測(cè)圖像，所述至少一平行光平行于所述至少一表面；以及

通過(guò)圖像處理單元對(duì)所述至少一表面的檢測(cè)圖像進(jìn)行評(píng)估。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)檢測(cè)方法，其特征在于，還包括：

提供第一平行光行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的上表面，并以所述取像單元獲取所述上表面的檢測(cè)圖像；以及

提供第二平行光行經(jīng)且貼近所述待測(cè)物的下表面，并以所述取像單元獲取所述下表面的檢測(cè)圖像。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)檢測(cè)方法，其特征在于，所述光學(xué)檢測(cè)設(shè)備還包括框架，所述框架呈鏤空且承載所述待測(cè)物的所述下表面的周緣，所述第二平行光通過(guò)所述框架的開(kāi)口后行經(jīng)且貼近所述下表面。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)檢測(cè)方法，其特征在于，所述光學(xué)檢測(cè)設(shè)備還包括反射組件，設(shè)置在所述平臺(tái)，所述第二平行光通過(guò)所述反射組件的反射后通過(guò)所述開(kāi)口。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)檢測(cè)方法，其特征在于，所述光學(xué)檢測(cè)設(shè)備還包括框架，所述框架呈鏤空并呈L形，且承載所述待測(cè)物的所述下表面的周緣，所述第一平行光以及所述第二平行光其中之一通過(guò)所述框架的開(kāi)口后行經(jīng)且分別貼近所述上表面以及所述下表面。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)檢測(cè)方法，其特征在于，所述光學(xué)檢測(cè)設(shè)備包括控制單元與兩個(gè)側(cè)光源，所述控制單元電性連接所述兩個(gè)側(cè)光源，所述光學(xué)檢測(cè)方法還包括：

通過(guò)控制單元可切換地驅(qū)動(dòng)所述兩個(gè)側(cè)光源，以對(duì)所述待測(cè)物的上表面或所述待測(cè)物的下表面進(jìn)行檢測(cè)。