[發明專利]一種水磨石拋光工藝在審
| 申請號: | 202011047529.0 | 申請日: | 2020-09-29 | 
| 公開(公告)號: | CN112139892A | 公開(公告)日: | 2020-12-29 | 
| 發明(設計)人: | 蔡小郭;黃成偉 | 申請(專利權)人: | 福建泉州南星大理石有限公司 | 
| 主分類號: | B24B7/18 | 分類號: | B24B7/18;B24B27/00;B24B29/02;B24B55/06;B24B45/00;B24B47/22 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水磨石 拋光 工藝 | ||
本發明公開了一種水磨石拋光工藝,步驟1:將粗拋光盤安裝在水磨石拋光裝置上,通過粗拋光盤對地面進行打磨;步驟2:帶地面干燥后,灑上水泥固化劑,等待6小時;步驟3:待水泥固化劑干燥后,將粗拋光盤更換為半精拋光盤,通過半精拋光盤對地面進行打磨石;步驟4:待地面干燥后,再次灑上水泥固化劑,等待6小時;步驟5:待地面干燥后,將半精拋光盤更換為精拋光盤,通過精拋光盤對地面進行打磨石,本發明不僅操作方便,且更換拋光盤快速,從而工作效率高。
技術領域
本發明涉及拋光工藝,具體涉及一種水磨石拋光工藝。
背景技術
水磨石也稱磨石,是將碎石、玻璃、石英石等骨料拌入水泥粘接料制成混凝制品后經表面研磨、拋光的制品,傳統的水磨石以其造價低廉、可任意調色拼花、施工方便等獨特的優勢,在中國有著巨大的市場,已在全國城鄉各類建筑物中使用的水磨石地面有十億平方米之多,水磨石在使用之前需要進行拋光,從而能夠提高地面的平整度和光滑度,現有技術中的水磨石拋光是通過人工完成的,不僅效率低,且拋光質量難以保證,而存在的水磨石拋光裝置在拋光時尺寸單一,只能使用特定的拋光盤,因此當需要不同參數的拋光盤拋光時,則更換麻煩,從而工作效率較低。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種水磨石拋光工藝,以解決上述技術問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:
一種水磨石拋光工藝,包括以下步驟:
步驟1:將粗拋光盤安裝在水磨石拋光裝置上,通過粗拋光盤對地面進行打磨,粗拋光盤的轉速為2000轉,粗拋光盤的直徑為500mm;
步驟2:帶地面干燥后,灑上水泥固化劑,等待6小時;
步驟3:待水泥固化劑干燥后,將粗拋光盤更換為半精拋光盤,通過半精拋光盤對地面進行打磨石,半精拋光盤的轉速為2500轉,半精拋光盤的直徑為500mm;
步驟4:待地面干燥后,再次灑上水泥固化劑,等待6小時;
步驟5:待地面干燥后,將半精拋光盤更換為精拋光盤,通過精拋光盤對地面進行打磨石,半精拋光盤的轉速為3000轉,精拋光盤的直徑為500mm。
進一步地,該水磨石拋光裝置包括:支架,所述支架上設有扶手,所述支架的下面設有輔助架,所述輔助架的底部設有一對前輪和一對后輪;噴水機構,所述噴水機構包括水箱,所述吸塵機構設置在所述支架上,所述水箱的下端設有水管,所述水管的下端穿過所述輔助架并向下延伸;吸塵機構,所述吸塵機構包括吸塵箱,所述吸塵箱設置在所述支架上,所述吸塵箱的下面設有吸塵管,所述吸塵管的下端穿過所述輔助架并向下延伸;驅動機構,所述驅動機構包括氣缸,所述氣缸設置在所述支架上,所述氣缸的下面設有伸縮桿,所述伸縮桿的下端連接有連板;拋光機構,所述拋光機構設置在所述連板的下面,所述拋光機構包括固定箱,所述固定箱設置在所述連板的下面,所述固定箱內設有可轉動的轉盤,所述轉盤的下面連接有連接箱,所述連接箱內設有左安裝組件、右安裝組件和插接桿,所述插接桿通過所述左安裝組件和所述右安裝組件安裝在所述連接箱內,所述插接桿的下面設有拋光盤。
更進一步地,所述左安裝組件包括上滑塊和下滑塊,所述上滑塊的右下斜面和所述下滑塊的左上斜面相互滑動配合,所述上滑塊在所述連接箱的第一腔的左側壁上滑動,所述下滑塊在所述第一腔的底部滑動,所述上滑塊的上面設有楔塊,所述楔塊的上面滑動設有導塊,所述導塊的內部橫向設有左橫桿和螺釘,所述左橫桿的兩端延伸至所述第一腔的左右側壁內,所述螺釘從所述連接箱的左端伸入所述第一腔內,且所述螺釘的右端橫向穿過所述導塊,所述螺釘和所述導塊螺紋連接。
更進一步地,所述下滑塊的右端設有安裝塊,所述安裝塊的右端設有安裝頭,所述安裝頭卡接在所述插接桿左側開設的側槽內。
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