[發(fā)明專利]一種約束環(huán)和等離子體處理裝置及其排氣方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011046748.7
• 申請日: 2020-09-29
• 公開（公告）號: CN114334593A
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發(fā)明（設計）人: 王明明;楊金全
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 上海元好知識產(chǎn)權代理有限公司 31323
• 代理人: 包姝晴;張靜潔

1.一種用于等離子體處理裝置的約束環(huán)，其特征在于，包含多個環(huán)體和多個肋條；所述環(huán)體同圓心布置，相鄰環(huán)體之間的縫隙形成氣體通道；每個所述肋條設置于環(huán)體的下方，并與所有的環(huán)體相交；每個肋條中的一部分不垂直于所述環(huán)體在交點處的切線。

2.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，所述肋條頂面的寬度小于肋條底面的寬度；所述肋條頂面與環(huán)體底面連接。

3.如權利要求2所述約束環(huán)，其特征在于，所述肋條的截面為梯形，所述肋條包含位于肋條頂面和肋條底面之間的側(cè)面，至少一個所述側(cè)面是傾斜的。

4.如權利要求3所述約束環(huán)，其特征在于，所述傾斜的側(cè)面與肋條底面形成的夾角大于45°。

5.如權利要求2所述約束環(huán)，其特征在于，所述肋條底面的寬度不大于單個環(huán)體的寬度。

6.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，所述多個肋條沿所述環(huán)體的周向均勻分布。

7.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，每個肋條與同一個環(huán)體上的一處或多處連接。

8.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，每個肋條是直線段，其與環(huán)體相交，所述肋條與環(huán)體在交點處的切線形成的夾角小于90°。

9.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，每個肋條是弧形段。

10.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，每兩個肋條形成一肋條組；肋條組中的兩個肋條對稱設置，兩個肋條相互連接，或相互隔開；多個肋條組沿所述環(huán)體的周向均勻分布。

11.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，每個肋條包含一個或多個沿環(huán)體圓周方向的第一部分，和一個或多個第二部分，所述第二部分用于連接環(huán)體。

12.如權利要求1所述約束環(huán)，其特征在于，所述環(huán)體和所述肋條為鋁合金材質(zhì)。

13.一種等離子體處理裝置，包含反應腔，所述反應腔內(nèi)設有基座，用來承載晶圓；所述反應腔內(nèi)注有反應氣體以形成等離子體，用來處理晶圓；所述反應腔與排氣泵連接，用來將處理晶圓產(chǎn)生的副產(chǎn)物排出所述反應腔；其特征在于，

進一步包含權利要求1～12中任意一項所述約束環(huán)，所述約束環(huán)在反應腔內(nèi)環(huán)繞基座設置；所述約束環(huán)設置在所述排氣泵上方，用來約束等離子體；所述約束環(huán)包含多個環(huán)體和多個肋條；所述環(huán)體同圓心布置，相鄰環(huán)體之間的縫隙形成氣體通道；每個所述肋條設置于環(huán)體的下方，并與所有的環(huán)體相交；每個肋條中的一部分不垂直于所述環(huán)體在交點處的切線。

14.一種排氣方法，適用于權利要求13中所述等離子體處理裝置，反應腔內(nèi)的氣體流向圍繞基座的約束環(huán)，穿過所述約束環(huán)的氣體通道，排放到約束環(huán)下方的排氣區(qū)域，通過排氣泵排出；其特征在于，從氣體通道流出的氣體，在流向設有肋條的區(qū)域時，沿著肋條的側(cè)面流動到排氣區(qū)域，使得氣體在設有肋條的區(qū)域分布均勻。