[發(fā)明專利]一種窄線寬激光器及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011046349.0 | 申請(qǐng)日： | 2020-09-29 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112152078B | 公開（公告）日： | 2021-08-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鮮青云;王任凡;呂輝;姚育成 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 武漢敏芯半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01S5/06 | 分類號(hào)： | H01S5/06;H01S5/065;H01S5/22 |
| 代理公司： | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人： | 許美紅 |
| 地址： | 430014 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)金融港*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 窄線寬 激光器 及其 制作方法 | ||
1.一種窄線寬激光器，其特征在于，該激光器為脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，脊波導(dǎo)的兩側(cè)均設(shè)有光吸收層，光吸收層包括多個(gè)等間隔排布的光吸收條；該光吸收層吸收特定波長(zhǎng)的光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器，其特征在于，光吸收條的間隔周期d1為：
式中，n表示模式的數(shù)值，n為奇數(shù)，λ表示自由空間波長(zhǎng)，neff，ave表示波導(dǎo)的平均有效折射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器，其特征在于，光吸收層到有源層的距離使得光吸收層對(duì)特定波長(zhǎng)的光的吸收效率最大。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器，其特征在于，光吸收條是由具有光吸收作用的材料制成，材料具體為金、鉑、鋁、二氧化鈦、二硫化鉬或鈣鈦礦。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的窄線寬激光器，其特征在于，該激光器從下到上依次包括n面電極層、襯底層、下包層、下光限制層、有源層、上光限制層、上包層和P面電極層。
6.一種窄線寬激光器的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
制作出脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu)；
在脊波導(dǎo)的兩側(cè)制作出光吸收層，光吸收層包括多個(gè)等間隔排布的光吸收條，該光吸收層吸收特定波長(zhǎng)的光。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的窄線寬激光器的制作方法，其特征在于，還包括步驟：調(diào)整光吸收層到有源層的距離，提高光吸收層對(duì)特定波長(zhǎng)的光的吸收效率。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的窄線寬激光器的制作方法，其特征在于，光吸收條為金屬條，在脊波導(dǎo)的兩側(cè)制作出多個(gè)等間隔排布的金屬條具體包括：
在脊波導(dǎo)的兩側(cè)涂光刻膠，利用設(shè)計(jì)好的掩模版進(jìn)行光刻，光刻之后進(jìn)行顯影去膠，去掉金屬條區(qū)域的光刻膠；
采用蒸發(fā)鍍金的方式，在脊波導(dǎo)的兩側(cè)形成金屬層；
再進(jìn)行去膠，將未顯影區(qū)域的光刻膠上覆蓋的金屬去掉，形成多個(gè)等間隔排布的金屬條。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的窄線寬激光器的制作方法，其特征在于，該方法還包括步驟：在襯底上依次生長(zhǎng)下包層、下光限制層、有源層、上光限制層和上包層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的窄線寬激光器的制作方法，其特征在于，刻蝕上包層，制作出脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu)。
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