[發(fā)明專利]旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011045241.X | 申請(qǐng)日: | 2020-09-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112593198A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梅津琢治 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能特機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C14/50 | 分類號(hào): | C23C14/50 |
| 代理公司: | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 鄧宗慶 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動(dòng) 裝置 | ||
1.一種旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置具備使保持基板的基板保持體旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置具備:
框體,所述框體具有沿著由所述基板保持體保持的基板的外周設(shè)置的外周框部,在基板從所述基板保持體落下時(shí),所述框體承接該基板;及
往復(fù)移動(dòng)機(jī)構(gòu),所述往復(fù)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述框體往復(fù)移動(dòng),以便能夠變更所述框體與所述基板保持體的相對(duì)面間的距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述外周框部具有第一相對(duì)面,所述第一相對(duì)面與由所述基板保持體保持的基板中的緊貼于所述基板保持體的緊貼面的相反側(cè)的面相對(duì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
在基板保持于所述基板保持體的狀態(tài)下,在該基板與所述第一相對(duì)面之間確保有間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述外周框部具有與由所述基板保持體保持的基板的外周側(cè)面相對(duì)的第二相對(duì)面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
由所述基板保持體保持的基板的平面形狀為矩形,該基板的外周側(cè)面具有四個(gè)平面,所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置具備第一基板按壓機(jī)構(gòu),所述第一基板按壓機(jī)構(gòu)將所述四個(gè)平面中的在利用所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述基板保持體旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中成為鉛垂方向上方的一側(cè)的平面朝向成為鉛垂方向下方的一側(cè)的平面?zhèn)劝磯骸?/p>
6.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
由所述基板保持體保持的基板的平面形狀為矩形,該基板的外周側(cè)面具有四個(gè)平面,所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置具備第二基板按壓機(jī)構(gòu),所述第二基板按壓機(jī)構(gòu)將所述四個(gè)平面中的所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)軸線方向上的一方的平面朝向另一方的平面?zhèn)劝磯骸?/p>
7.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述框體具備橫擋部,所述橫擋部與所述外周框部連結(jié),并設(shè)置成覆蓋由所述基板保持體保持的基板的中央的至少一部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述橫擋部具有第三相對(duì)面,所述第三相對(duì)面與由所述基板保持體保持的基板中的緊貼于所述基板保持體的緊貼面的相反側(cè)的面相對(duì)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
在基板保持于所述基板保持體的狀態(tài)下,在該基板與所述第三相對(duì)面之間確保有間隙。
10.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述基板保持體通過(guò)吸附來(lái)保持基板。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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