[發(fā)明專利]巷道大氣壓力支護(hù)打孔判別方法及系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011044767.6
• 申請(qǐng)日: 2020-09-28
• 公開（公告）號(hào): CN112377210B
• 公開（公告）日: 2023-05-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉暢;孫永新;趙會(huì)波;姜鵬飛;王子越;韋堯中;郭吉昌;羅超;曹曉明;陳志良;祝凌甫;伊丙鼎;孫曉冬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中煤科工開采研究院有限公司;天地科技股份有限公司;山西天地王坡煤業(yè)有限公司
• 主分類號(hào): E21D11/00
• 分類號(hào): E21D11/00;E21D11/10;E21F17/18
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 白雪靜

1.一種巷道大氣壓力支護(hù)打孔判別方法，其特征在于，包括：

將噴涂材料噴涂到新形成的巷道表面，以在圍巖表面形成一層密封噴層；

獲取圍巖的圍巖參數(shù)，根據(jù)所述圍巖參數(shù)，判斷是否需要在所述圍巖表面進(jìn)行打孔；

若判定需要打孔，則在所述圍巖表面預(yù)留的未噴涂區(qū)域打孔，以形成抽氣孔；

通過所述抽氣孔抽取圍巖間隙內(nèi)的氣體或者直接抽取所述圍巖間隙內(nèi)的氣體，以使圍巖處于負(fù)壓狀態(tài)，其中，所述密封噴層在負(fù)壓狀態(tài)下形成臨時(shí)支護(hù)；

其中，所述圍巖參數(shù)包括所述圍巖的巖石質(zhì)量指標(biāo)RQD和所述圍巖表面的裂隙參數(shù)；

所述根據(jù)所述圍巖參數(shù)，判斷是否需要在所述圍巖表面進(jìn)行打孔，包括：

如所述圍巖的RQD大于第一預(yù)設(shè)值，則確定需要在所述圍巖表面進(jìn)行打孔；

所述圍巖的RQD包括巷道的軸向的RQD和巷道的徑向RQD，所述方法還包括：

所述軸向的RQD和/或所述巷道的徑向RQD大于所述第一預(yù)設(shè)值，則確定需要在所述圍巖表面進(jìn)行打孔；

所述裂隙參數(shù)包括裂隙間距和裂隙長(zhǎng)度，其中，所述根據(jù)所述圍巖參數(shù)，判斷是否需要在所述圍巖表面進(jìn)行打孔，包括：

若所述裂隙間距大于第二預(yù)設(shè)值，則確定需要在所述圍巖表面進(jìn)行打孔；和/或

若所述裂隙長(zhǎng)度小于第三預(yù)設(shè)值，則確定需要在所述圍巖表面進(jìn)行打孔。

2.如權(quán)利要求1所述的巷道大氣壓力支護(hù)打孔判別方法，其特征在于，所述方法還包括：

若所述圍巖的RQD小于或者等于第一預(yù)設(shè)值，且所述裂隙間距小于或者等于第二預(yù)設(shè)值且所述裂隙長(zhǎng)度大于或者等于所述第三預(yù)設(shè)值，則確定無需在所述圍巖表面進(jìn)行打孔。

3.如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的巷道大氣壓力支護(hù)打孔判別方法，其特征在于，所述方法還包括：

在抽氣過程中，檢測(cè)所述圍巖間隙內(nèi)的當(dāng)前氣壓并根據(jù)所述當(dāng)前壓力，對(duì)用于抽氣的抽真空子系統(tǒng)的工作參數(shù)進(jìn)行調(diào)整，其中，在所述當(dāng)前氣壓未低于預(yù)設(shè)閾值時(shí)所述工作參數(shù)與所述圍巖間隙內(nèi)的氣壓負(fù)相關(guān)。

4.如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的巷道大氣壓力支護(hù)打孔判別方法，其特征在于，在將噴涂材料噴涂到新形成的巷道表面的過程中，所述方法還包括：

采集圍巖表面的圖像，根據(jù)所述圖像獲取存在間隙的表面區(qū)域；

將噴涂材料噴涂到新形成的巷道表面時(shí)，避讓所述存在間隙的表面區(qū)域，以形成所述未噴涂區(qū)域。

5.如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的巷道大氣壓力支護(hù)打孔判別方法，其特征在于，在圍巖表面形成所述密封噴層之后，所述方法還包括：

判斷所述密封噴層是否滿足支護(hù)要求；

若所述密封噴層未滿足支護(hù)要求，則繼續(xù)向未滿足支護(hù)要求的噴涂區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)充噴涂或者注漿處理。

6.如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的巷道大氣壓力支護(hù)打孔判別方法，其特征在于，所述方法還包括：

在噴涂過程中，采集待噴涂區(qū)域的噴涂質(zhì)量，根據(jù)所述噴涂質(zhì)量，調(diào)整噴涂的角度。