[發明專利]一種填埋場滲瀝液導排系統

在審

• 申請號: 202011044424.X
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號: CN112095742A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 王洋;齊長青;甄勝利;羅彬;金晶;陳雨;楊慶彬;蓋益民;洪慧蘭;田素芳;倪哲;王磊
• 申請（專利權）人: 北京高能時代環境技術股份有限公司
• 主分類號: E03F1/00
• 分類號: E03F1/00;E03F3/04;E03F9/00;E03F7/02;E02B7/00;E02D31/00
• 代理公司: 北京思創大成知識產權代理有限公司 11614
• 代理人: 高爽

1.一種填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，包括：

分區壩，設置于所述填埋場內部，將所述填埋場分隔成多個填埋區；

主導排溝，設置于所述填埋場的底部，貫穿所述填埋區和所述分區壩，所述主導排溝的一端高于另一端；

次導排溝，設置于所述主導排溝的兩側，設置于所述填埋場的邊坡的坡腳處，所述次導排溝的一端高于另一端；

多根主導排管，設置于所述主導排溝的底部；

次導排管，設置于所述次導排溝的底部；

收集井，設置在所述填埋場靠近所述主導排溝的所述一端的邊坡的坡腳處，與所述主導排管和所述次導排管的所述另一端相連通；

抽排管，一端設置于所述收集井內。

2.根據權利要求1所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述主導排溝和所述次導排溝的兩側分別設置有第一導坡和第二導坡，所述第一導坡靠近所述主導排溝的一端低于遠離所述主導排溝的一端，所述第二導坡靠近所述次導排溝的一端低于遠離所述次導排溝的一端。

3.根據權利要求1所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述分區壩的截面形狀為梯形，所述分區壩的外側包覆有防滲層，所述防滲層與所述填埋場底部的防滲層相連接。

4.根據權利要求1所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述主導排溝和所述次導排溝的底部分別設置有第一墊層和第二墊層，所述主導排管和所述次導排管分別設置于所述第一墊層和所述第二墊層上側，所述主導排溝和所述次導排溝內所述主導排管和所述次導排管的外側填充有第一填料，所述第一填料外側包裹有第一反濾層。

5.根據權利要求1所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述收集井的底部設置有第三墊層，所述收集井內填充有第二填料，所述第二填料外側包裹有第二反濾層。

6.根據權利要求5所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述抽排管包括水平部和傾斜部，所述水平部的一端與所述傾斜部相連接形成折線形，所述水平部設置于所述收集井底部的所述第三墊層上側，所述水平部的管壁上開始有多個第一管孔，所述水平部的另一端設置有封堵擋板，所述傾斜部設置于靠近所述收集井的邊坡上，所述靠近所述收集井的邊坡上設置有第一盲溝，所述傾斜部設置于所述第一盲溝內并由粘土或混凝土填充。

7.根據權利要求1所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，還包括沖洗管，所述沖洗管與所述主導排管和所述次導排管的所述一端相連通，所述沖洗管設置于所述填埋場遠離所述收集井的一側的邊坡上，所述遠離所述收集井的一側的邊坡上設置有第二盲溝，所述沖洗管設置于所述第二盲溝內并由粘土或混凝土填充。

8.據權利要求1所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述填埋區沿所述主導排溝的軸線方向設置有多個。

9.根據權利要求8所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述主導排管的根數與所述填埋區的數量相等，多根所述主導排管并排布置，不同的所述主導排管分別在不同的填埋區內的管壁上開設有多個第二管孔，所述次導排管處于所述填埋區內的管壁上開設有多個第三管孔。

10.根據權利要求9所述的填埋場滲瀝液導排系統，其特征在于，所述第二管孔所在的填埋區內的主導排管上設置有主閘閥，所述主閘閥設置于靠近所述主導排溝的所述另一端的主導排管內部，所述第三管孔所在的填埋區的次導排管上設置有次閘閥，所述次閘閥設置于靠近所述次導排溝的所述另一端的次導排管內部。