[發(fā)明專利]一種液晶面板和雙層液晶面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011044258.3 | 申請日： | 2020-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN112099271B | 公開（公告）日： | 2023-10-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 寧春麗;劉洪朱;田凡;席克瑞;翟珊珊 | 申請（專利權(quán)）人： | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1339 | 分類號： | G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444 | 代理人： | 李曉霞 |
| 地址： | 361101 福建*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 液晶面板 雙層 | ||
1.一種液晶面板，其特征在于，所述液晶面板包括：
相互對置的第一基板和第二基板；
染料液晶層，位于所述第一基板和所述第二基板之間，所述染料液晶層包括液晶分子和分散在所述液晶分子之間的二向色性染料分子；
第一支撐柱和第二支撐柱，所述第一支撐柱和所述第二支撐柱均位于所述第一基板和所述第二基板之間，所述第一支撐柱形成在所述第一基板之上，所述第二支撐柱形成在所述第二基板之上，且所述第一支撐柱和所述第二支撐柱相對接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板，其特征在于，
在垂直于所述液晶面板方向上，所述第一基板和所述第二基板之間的間隔距離為H，其中，15μm≤H≤50μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板，其特征在于，
在垂直于所述液晶面板方向上，所述第一支撐柱的高度為h1，所述第二支撐柱的高度為h2，其中，7.5μm≤h1≤25μm，且7.5μm≤h2≤25μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板，其特征在于，
所述第一支撐柱的遠(yuǎn)離所述第一基板一側(cè)的表面為第一表面，所述第二支撐柱的遠(yuǎn)離所述第二基板一側(cè)的表面為第二表面；
所述第一表面的面積大于或等于所述第二表面的面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶面板，其特征在于，
所述第一表面的面積大于所述第二表面的面積；
所述第一表面具有第一凹槽，所述第二表面在所述第一凹槽內(nèi)與所述第一表面相接觸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板，其特征在于，
所述第一支撐柱的遠(yuǎn)離所述第一基板一側(cè)的表面為第一表面，所述第二支撐柱的遠(yuǎn)離所述第二基板一側(cè)的表面為第二表面；
所述第一表面在第一方向上的最大長度大于其在第二方向上的最大長度，所述第一方向與所述第二方向交叉，且所述第一方向和所述第二方向均與所述液晶面板所在平面平行；
所述第二表面在所述第一方向上的最大長度小于其在所述第二方向上的最大長度；
且，所述第一表面在所述第一方向上的最大長度大于所述第二表面在所述第一方向上的最大長度，所述第二表面在所述第二方向上的最大長度大于所述第一表面在所述第二方向上的最大長度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶面板，其特征在于，
所述第一表面具有第一幾何中心，所述第二表面具有第二幾何中心，
在垂直于所述液晶面板方向上，所述第一幾何中心與所述第二表面交疊，所述第二幾何中心與所述第一表面交疊。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶面板，其特征在于，
所述第一表面具有第一幾何中心；
所述第一表面具有第一凸起部和第二凸起部，在所述第一方向上，所述第一凸起部和所述第二凸起部分別位于所述第一幾何中心的兩側(cè)；
所述第二表面在所述第一凸起部和所述第二凸起部之間與所述第一表面相接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶面板，其特征在于，
所述第二表面具有第二幾何中心；
所述第二表面具有第三凸起部和第四凸起部，在所述第二方向上，所述第三凸起部和所述第四凸起部分別位于所述第二幾何中心的兩側(cè)；
所述第一表面在所述第三凸起部和所述第四凸起部之間與所述第二表面相接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板，其特征在于，
所述第一支撐柱的遠(yuǎn)離所述第一基板一側(cè)的表面為第一表面，所述第二支撐柱的遠(yuǎn)離所述第二基板一側(cè)的表面為第二表面；
所述第一表面和所述第二表面中至少一者具有表面微結(jié)構(gòu)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液晶面板，其特征在于，
所述第一支撐柱和所述第二支撐柱中至少一者的制作材料包括有機(jī)材料和硅微球。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
