[發明專利]一種真空井設備腔集水與排水裝置

在審

• 申請號: 202011044095.9
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號: CN112160396A
• 公開（公告）日: 2021-01-01
• 發明（設計）人: 崔利興;鄧永峰
• 申請（專利權）人: 清環拓達（蘇州）環境科技有限公司
• 主分類號: E03F1/00
• 分類號: E03F1/00;E03F5/04;E03F5/14;E03F3/04;E03B3/28
• 代理公司: 蘇州尚為知識產權代理事務所(普通合伙) 32483
• 代理人: 陳鋼

1.一種真空井設備腔集水與排水裝置，其特征在于：包括集水排水柱、分布在集水排水柱內部的集水管路以及排水管路；所述集水排水柱下端設置有用于匯集液體的集水腔；所述集水管路包括外接排水入口以及延伸至集水腔一側的集水出口；所述排水管路包括延伸至集水腔內的集水入口以及利用壓差實現集水腔內液體排出的外接排水出口。

2.根據權利要求1所述的一種真空井設備腔集水與排水裝置，其特征在于：所述集水排水柱下端具有一呈一體結構設置的安裝座，所述集水腔設置在安裝座下端面，并向安裝座側壁發射延伸，實現與安裝座外側的連通；所述安裝座下端偏離集水腔的端面貫穿設置有長桿螺釘，用于實現集水排水柱的安裝固定。

3.根據權利要求2所述的一種真空井設備腔集水與排水裝置，其特征在于：所述集水管路包括相連通的第一水平管路及第一垂直管路，所述第一水平管路遠離第一垂直管路的一端形成外接排水入口，所述第一垂直管路下端形成集水出口，且所述第一垂直管路偏離集水排水柱中軸線設置。

4.根據權利要求3所述的一種真空井設備腔集水與排水裝置，其特征在于：所述第一水平管路的設置數量大于一個，并沿集水排水柱中軸線方向依次分布。

5.根據權利要求3所述的一種真空井設備腔集水與排水裝置，其特征在于：所述排水管路包括相連通的第二水平管路及第二垂直管路，所述第二水平管路遠離第二垂直管路的一端形成外接排水出口，所述第二垂直管路下端形成集水入口，且所述第二垂直管路沿集水排水柱中軸線方向設置。

6.根據權利要求5所述的一種真空井設備腔集水與排水裝置，其特征在于：所述集水入口處設置有與安裝座呈一體結構設置的導柱，所述導柱下端面與安裝座下端面處在同一水平面內，所述集水入口均布開設在導柱側壁上，高度低于集水腔上端面的高度。