[發明專利]攝像頭模組、拍照方法、電子設備及可讀存儲介質在審
| 申請號: | 202011043740.5 | 申請日: | 2020-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN112188056A | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發明(設計)人: | 周耀敏 | 申請(專利權)人: | 維沃移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/225 | 分類號: | H04N5/225 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;張博 |
| 地址: | 523863 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 攝像頭 模組 拍照 方法 電子設備 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種攝像頭模組,包括鏡頭,其特征在于,所述攝像頭模組還包括:至少兩個諧振腔;
所述至少兩個諧振腔重疊設置在所述鏡頭的鏡頭端面上;
所述諧振腔包括第一反射層和第二反射層,在所述第一反射層和所述第二反射層之間設置調節部件,所述調節部件分別與所述第一反射層和所述第二反射層固定連接,所述調節部件用于調節所述第一反射層和所述第二反射層之間的距離,以調節所述諧振腔的厚度;
在每個所述諧振腔的厚度分別為每個所述諧振腔的目標厚度的情況下,每個所述諧振腔對應的透射波長疊加后僅包括一個透射峰。
2.根據權利要求1所述的電子設備,其特征在于,所述至少兩個諧振腔為至少兩個法布里-珀羅F-P腔。
3.根據權利要求2所述的攝像頭模組,其特征在于,所述F-P腔還包括:基板和導電層;
所述第一反射層和所述第二反射層位于所述基板和所述導電層之間;
所述調節部件位于所述第一反射層和所述第二反射層之間,所述調節部件用于調節所述第一反射層和所述第二反射層之間的間距;
所述調節部件與所述導電層電連接。
4.根據權利要求3所述的攝像頭模組,其特征在于,所述調節部件為電致伸縮聚合物或者電光效應聚合物。
5.根據權利要求3所述的攝像頭模組,其特征在于,所述至少兩個F-P腔,包括:第一F-P腔和第二F-P腔;
在所述第一F-P腔的厚度為第一目標厚度,且第二F-P腔的厚度為第二目標厚度的情況下,所述第一F-P腔和第二F-P腔之間僅包括一個波長相同的透射峰。
6.一種拍照方法,應用于電子設備,其特征在于,所述電子設備包括如權利要求1至5任一項所述的攝像頭模組,所述方法包括:
根據目標拍照模式,確定對應的目標光波長;
根據所述目標光波長,通過調節部件調節每個諧振腔的第一反射層和第二反射層之間的距離,使每個所述諧振腔的厚度調整至每個所述諧振腔的目標厚度;
通過所述攝像頭模組中的鏡頭獲取圖像。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述諧振腔為F-P腔;
所述根據所述目標光波長,通過調節部件調節每個諧振腔的第一反射層和第二反射層之間的距離,包括:
根據所述目標光波長,確定每個F-P腔的目標厚度;
根據所述目標厚度,確定與每個所述F-P腔對應的調整電壓;
對每個所述F-P腔中的調整部件施加對應的調整電壓。
8.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,所述攝像頭模組中包括第一F-P腔和第二F-P腔;
所述根據所述目標光波長,通過調節部件調節每個諧振腔的第一反射層和第二反射層之間的距離,包括:
根據所述目標光信號波長,調整所述第一F-P腔的厚度為第一目標厚度,以及調整所述第二F-P腔的厚度為第二目標厚度。
9.一種電子設備,其特征在于,包括如權利要求1至4任一項所述的攝像頭模組,還包括:
確定模塊,用于根據目標拍照模式,確定對應的目標光波長;
調整模塊,用于根據所述目標光波長,通過調節部件調節每個諧振腔的第一反射層和第二反射層之間的距離,使每個所述諧振腔的厚度調整至每個所述諧振腔的目標厚度;
獲取模塊,用于通過所述攝像頭模組中的鏡頭獲取圖像。
10.根據權利要求10所述的電子設備,其特征在于,所述諧振腔為F-P腔;
所述調整模塊包括:
第一確定單元,用于根據所述目標光波長,確定每個F-P腔的目標厚度;
第二確定單元,用于根據所述目標厚度,確定與每個所述F-P腔對應的調整電壓;
調整單元,用于對每個所述F-P腔中的調整部件施加對應的調整電壓。
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