[發明專利]三維形貌測量裝置

有效

• 申請號: 202011042935.8
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號: CN112747686B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發明（設計）人: 余良彬;王湧鋒;陳俊玓
• 申請（專利權）人: 鑒微科技股份有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 王玉雙;張燕華

1.一種三維形貌測量裝置，其特征在于，包含：

一投射裝置，投射多個結構光于一場景上，各該結構光的投射時間彼此錯開，該些結構光依序在一第一投射期間及一第二投射期間投射，該些結構光分別具有一頻率及一平均位準，其中，該第一投射期間的該結構光的該平均位準和該第二投射期間的該結構光的該平均位準相同，該第一投射期間的該結構光的該頻率和該第二投射期間的該結構光的該頻率不同；

一取像裝置，在各該結構光的投射時間內擷取該場景而獲得一影像；以及

一影像處理裝置，根據該些影像獲得該場景內的一待測物的三維形貌；

其中，該影像處理裝置根據該第一投射期間擷取獲得的該影像獲得一平均位準值，并根據該平均位準值及該第二投射期間擷取獲得的該影像獲得至少一相位，并根據該相位獲得場景內的該待測物的三維形貌。

2.根據權利要求1所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該第二投射期間中的該結構光區分為多個第二結構光組，該些第二結構光組分別具有不同的該頻率，該取像裝置對應不同的該第二結構光組獲得的該些影像具有不同的振幅。

3.根據權利要求1所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該取像裝置對應該第一投射期間中的該結構光獲得的該影像的振幅不同于對應該第二投射期間中的該結構光獲得的該影像的振幅。

4.根據權利要求1所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該第一投射期間中的該結構光區分為至少一第一結構光組，該第二投射期間中的該結構光區分為至少一第二結構光組，該些第一結構光組互相具有相同的該頻率，該些第一結構光組與各該至少一第二結構光組分別具有不同的該頻率。

5.根據權利要求1所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該第一投射期間中的該結構光為一個，該結構光為對應于該平均位準的均一光強度，該第二投射期間中的該結構光區分為至少一第二結構光組，每一該第二結構光組中的該些結構光的數量為二個且具有周期變化的圖案，每一該第二結構光組分別具有不同的該頻率。

6.根據權利要求1所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該第二投射期間中的該結構光區分為至少一第二結構光組，每一該第二結構光組中的該些結構光的數量為二個。

7.根據權利要求1所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該第一投射期間中的該結構光區分為至少一第一結構光組，在同一該第一結構光組中的該些結構光具有不同的相移角。

8.根據權利要求1所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該第二投射期間中的該結構光區分為至少一第二結構光組，在同一該第二結構光組中的該些結構光具有不同的相移角。

9.根據權利要求7或8所述的三維形貌測量裝置，其特征在于，該些相移角成等差數列。