[發明專利]一種可調光學濾波器件

有效

• 申請號: 202011042805.4
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號: CN111880257B
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 郭斌;黃錦標
• 申請（專利權）人: 深圳市海譜納米光學科技有限公司
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28;G02B26/00
• 代理公司: 廈門福貝知識產權代理事務所(普通合伙) 35235
• 代理人: 陳遠洋

1.一種可調光學濾波器件，其特征在于，所述器件包括兩片具有光學鏡面的襯底，所述兩片具有光學鏡面的襯底相對設置以在所述光學鏡面之間形成腔體，所述相對設置的襯底的外圍設置壓電執行器，所述器件還包括設置在所述襯底上下兩側的支撐結構，所述壓電執行器和所述襯底分別被鍵合到所述支撐結構上，所述支撐結構包括的襯底上設置有溝槽，以降低所述支撐結構的機械強度，所述襯底為硅襯底，并且所述硅襯底分別通過第一鍵合物和設置在所述硅襯底的背離所述腔體的表面上的支撐塊與所述支撐結構鍵合，所述壓電執行器分別通過第二鍵合物與所述支撐結構鍵合，所述支撐塊通過額外的鍵合物被鍵合在所述硅襯底的背離所述腔體的表面上，所述硅襯底具有200um到2mm之間的厚度。

2.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述相對設置的襯底的左右外圍分別設置有壓電執行器，以實現對所述光學鏡面的左右兩端的驅動。

3.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述支撐結構由單獨的襯底制成，并且設置有用于透光的通孔以使得光進入所述腔體內。

4.根據權利要求3所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述通孔和溝槽的形成方式包括深硅蝕刻或激光加工以移除部分硅襯底。

5.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述具有光學鏡面的襯底之間設置有間隔物，以使所述光學鏡面間隔開形成所述腔體。

6.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述第一鍵合物的厚度小于所述第二鍵合物的厚度。

7.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述第一鍵合物和/或第二鍵合物的材質包括光刻膠或者粘膠。

8.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述支撐結構上設置第二鍵合物的設置方式包括晶圓級涂覆或納升級別的微量點膠。

9.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，由相對設置的所述硅襯底形成的腔組件的厚度小于所述壓電執行器的厚度。

10.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述支撐塊的材質采用玻璃、硅或者氧化硅。

11.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述支撐結構與所述具有光學鏡面的襯底鍵合的設置方式包括硅融合、陽極鍵合、共晶鍵合或有機聚合物鍵合。

12.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述光學鏡面材質采用銀或氧化硅。

13.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述光學鏡面結構采用分布式布拉格反射器。

14.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，所述光學鏡面包括鍵合在所述硅襯底的內表面上的硅薄膜。

15.根據權利要求1所述的可調光學濾波器件，其特征在于，在兩片所述襯底的光學鏡面的周邊表面設置有電極，以檢測所述光學鏡面之間的間距。