[發(fā)明專利]一種紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011042596.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111920998A | 公開(公告)日: | 2020-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伍曉峰;謝俊喜;史要濤;于臨昕;于翠萍;龐宏俊;周士安;郭培坤;包春慧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢光谷航天三江激光產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | A61L9/20 | 分類號(hào): | A61L9/20;A61L9/18;C02F1/32;C02F1/30;G02B26/10 |
| 代理公司: | 武漢智匯為專利代理事務(wù)所(普通合伙) 42235 | 代理人: | 李恭渝 |
| 地址: | 430000 湖北省武*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 紫外 激光 led 復(fù)合 殺毒 裝置 方法 | ||
1.一種紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置,其特征在于包括激光發(fā)射裝置、殺毒凈化腔室,所述殺毒凈化腔室的內(nèi)部上方設(shè)有掃描振鏡,所述掃描振鏡下方設(shè)有LED光源,所述掃描振鏡與LED光源之間形成殺毒凈化區(qū),所述激光發(fā)射裝置出光進(jìn)入所述殺毒凈化腔室內(nèi),經(jīng)由掃描振鏡的反射,激光光束的方向改變形成覆蓋所述殺毒凈化腔室空間的線性光束,所述殺毒凈化腔室設(shè)有入口和出口,用于被消毒物從所述入口進(jìn)入殺毒凈化腔室,所述被消毒物經(jīng)過殺毒凈化區(qū)后從所述出口排出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置,其特征在于所述LED光源包括導(dǎo)熱隔板和LED模組,所述LED模組設(shè)于導(dǎo)熱隔板上,所述導(dǎo)熱隔板設(shè)于殺毒凈化腔室的中部,所述導(dǎo)熱隔板與殺毒凈化腔室的底部形成導(dǎo)熱室,所述導(dǎo)熱隔板與殺毒凈化腔室的第一端面內(nèi)壁形成導(dǎo)流口,所述入口和出口設(shè)于殺毒凈化腔室的第二端面,所述入口位于導(dǎo)熱隔板上方,所述出口位于導(dǎo)熱隔板下方,所述被消毒物由入口進(jìn)入殺毒凈化區(qū)后,再依次經(jīng)由導(dǎo)流口、導(dǎo)熱室、出口排出。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置,其特征在于所述LED光源還包括透明光窗,所述透明光窗安裝于LED光源的LED模組上,所述透明光窗為球面鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置,其特征在于所述殺毒凈化腔室的內(nèi)部上方還設(shè)有直線滑臺(tái),所述掃描振鏡通過連接支架安裝于直線滑臺(tái)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置,其特征在于所述激光發(fā)射裝置包括紫外激光器、傳輸光路鏡組,所述紫外激光器出光經(jīng)傳輸光路鏡組整形后至掃描振鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置,其特征在于所述紫外激光器為連續(xù)或脈沖體制,所述紫外激光器出光的紫外光波段為200-355nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置,其特征在于還包括物理沉降室,所述物理沉降室通過水管與入口連通。
8.基于一種紫外激光和LED光復(fù)合殺毒裝置的殺毒方法,其特征在于包括以下步驟:
S1、激光發(fā)射裝置出光經(jīng)由掃描振鏡的反射,激光光束的方向改變形成覆蓋所述殺毒凈化腔室空間的線性光束,LED光源出光和線性光束完全覆蓋于殺毒凈化區(qū);
S2、待消毒的液體或氣體,通過入口進(jìn)入殺毒凈化區(qū)消毒后,由出口排出。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒方法,其特征在于所述激光發(fā)射裝置和LED光源的總功率不小于20W,所述殺毒凈化腔室為矩形體或圓柱體結(jié)構(gòu),循環(huán)處理氣體量不小于200m3/h。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的紫外激光和LED光復(fù)合殺毒方法,其特征在于所述殺毒凈化腔室內(nèi)表面為耐腐蝕的鋁材,表面經(jīng)鏡面拋光處理。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢光谷航天三江激光產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司,未經(jīng)武漢光谷航天三江激光產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011042596.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





