[發明專利]光學系統、攝像頭模組及終端設備在審
| 申請號： | 202011041797.1 | 申請日： | 2020-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN112415711A | 公開（公告）日： | 2021-02-26 |
| 發明（設計）人： | 劉彬彬;鄒海榮;李明 | 申請（專利權）人： | 江西晶超光學有限公司 |
| 主分類號： | G02B13/00 | 分類號： | G02B13/00;G02B13/06;G02B13/18 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 熊永強 |
| 地址： | 330096 江西省南昌市*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學系統 攝像頭 模組 終端設備 | ||
1.一種光學系統，其特征在于，包括多個透鏡，所述多個透鏡包括從物側至像側依次排布的：
第一透鏡，具有正屈折力，所述第一透鏡的物側面于近光軸處為凸面，所述第一透鏡的像側面于近光軸處為凹面；
第二透鏡，具有負屈折力，所述第二透鏡的物側面于近光軸處為凸面，所述第二透鏡的像側面于近光軸處為凹面；
第三透鏡，具有負屈折力；
第四透鏡，具有正屈折力；所述第四透鏡的像側面于近光軸處為凸面；
第五透鏡，具有負屈折力；
第六透鏡，具有正屈折力，所述第六透鏡的物側面于近光軸處為凸面，所述第六透鏡的像側面于近光軸處為凸面；
第七透鏡，具有負屈折力，所述第七透鏡的物側面于近光軸處為凸面，所述第七透鏡的像側面于近光軸處為凹面；
所述光學系統滿足以下條件式：
1(|SAG71|+SAG72)/CT71.5，
SAG71為所述第七透鏡的物側面有效徑內的軸外點至所述第七透鏡的物側面的軸上頂點于光軸上的最大距離，SAG72為所述第七透鏡的像側面有效徑內的軸外點至所述第七透鏡的像側面的軸上頂點于光軸上的最大距離，CT7為所述第七透鏡于光軸上的厚度。
2.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
|V2-V1|30，
V2為所述第二透鏡的阿貝數，V1為所述第一透鏡的阿貝數，所述阿貝數的參考波長為587.6nm。
3.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
0.5mm-1(n1+n2)/f1mm-1，
n1為所述第一透鏡的折射率，n2為所述第二透鏡的折射率，所述折射率的參考波長為587.6nm，f為所述光學系統的焦距。
4.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
f23＜0mm，
f23為所述第二透鏡和所述第三透鏡的組合焦距。
5.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
0(CT1+CT2+CT3)/TTL0.5，
CT1為所述第一透鏡于光軸上的厚度，CT2為所述第二透鏡于光軸上的厚度，CT3為所述第三透鏡于光軸上的厚度，TTL為所述光學系統中所述第一透鏡的物側面到成像面于光軸上的距離。
6.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
(|f2|+|f3|)/|R71|50，
f2為所述第二透鏡的焦距，f3為所述第三透鏡的焦距，R71為所述第七透鏡的物側面于光軸處的曲率半徑。
7.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
(f1+|f2|+|f3|)/f40，
f1為所述第一透鏡的焦距，f2為所述第二透鏡的焦距，f3為所述第三透鏡的焦距，f為所述光學系統的焦距。
8.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
R62/f-1，
R62為所述第六透鏡的像側面于光軸處的曲率半徑，f為所述光學系統的焦距。
9.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
|f6|+|f7|20mm，
f6為所述第六透鏡的焦距，f7為所述第七透鏡的焦距。
10.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，所述光學系統滿足條件式：
0R72/f1，
R72為所述第七透鏡的像側面于近光軸處的曲率半徑，f為所述光學系統的焦距。
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