[發明專利]一種文字陰影效果實現方法、裝置、設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202011038014.4
• 申請日: 2020-09-28
• 公開（公告）號: CN112329384A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 劉導安
• 申請（專利權）人: 廣州市百果園網絡科技有限公司
• 主分類號: G06F40/109
• 分類號: G06F40/109;G06T7/507;G06T11/60
• 代理公司: 北京澤方譽航專利代理事務所(普通合伙) 11884
• 代理人: 陳照輝

1.一種文字陰影效果實現方法，其特征在于，包括：

接收對陰影文本框輸入的待處理文本；

基于設定的文字陰影效果確定對應的陰影處理方式，所述文字陰影效果包括虛陰影效果和實陰影效果；

基于所述陰影處理方式對所述待處理文本進行文字陰影處理，以得到所述文字陰影效果對應的陰影效果文本；

在所述陰影文本框中顯示所述陰影效果文本。

2.根據權利要求1所述的文字陰影效果實現方法，其特征在于，所述基于設定的文字陰影效果確定對應的陰影處理方式，包括：

基于所述虛陰影效果確定對所述待處理文本的虛陰影處理方式，所述虛陰影效果包括單層虛陰影效果和/或多層虛陰影效果，相應的，所述虛陰影處理方式包括單層虛陰影處理方式和/或多層虛陰影處理方式。

3.根據權利要求2所述的文字陰影效果實現方法，其特征在于，所述基于所述陰影處理方式對所述待處理文本進行文字陰影處理，以得到所述文字陰影效果對應的陰影效果文本，包括：

按照所述單層虛陰影處理方式設置文字畫筆的陰影設置參數，所述陰影設置參數包括模糊半徑、橫向陰影距離、縱向陰影距離和陰影顏色中的至少一種；

依據文字布局工具基于所述陰影設置參數在畫布上繪制所述待處理文本，以得到所述單層虛陰影效果對應的陰影效果文本。

4.根據權利要求2所述的文字陰影效果實現方法，其特征在于，所述基于所述陰影處理方式對所述待處理文本進行文字陰影處理，以得到所述文字陰影效果對應的陰影效果文本，包括：

按照所述多層虛陰影處理方式設置每一層待處理陰影對應的文字畫筆的陰影設置參數，所述陰影設置參數包括模糊半徑、橫向陰影距離、縱向陰影距離和陰影顏色中的至少一種；

依據文字布局工具基于每一層待處理陰影對應的所述陰影設置參數在畫布上繪制所述待處理文本，以得到所述多層虛陰影效果對應的陰影效果文本。

5.根據權利要求3或4所述的文字陰影效果實現方法，其特征在于，所述基于所述陰影處理方式對所述待處理文本進行文字陰影處理之后，還包括：

將所述文字畫筆的文字屬性參數設置為設定文字屬性參數；

依據文字布局工具基于所述設定文字屬性參數在畫布上繪制所述待處理文本。

6.根據權利要求4所述的文字陰影效果實現方法，其特征在于，所述按照所述多層虛陰影處理方式設置每一層待處理陰影對應的文字畫筆的陰影設置參數，包括：

按照所述多層虛陰影處理方式設置陰影距離最大的待處理陰影對應的文字畫筆的陰影設置參數；

相應的，所述依據文字布局工具基于每一層待處理陰影對應的所述陰影設置參數在畫布上繪制所述待處理文本，包括：

依據文字布局工具基于所述陰影設置參數在畫布上繪制所述待處理文本，以得到對應單層虛陰影文本，并重新設置陰影距離最大的待處理陰影對應的文字畫筆的陰影設置參數，直至獲得所有待處理陰影對應的單層虛陰影文本。

7.根據權利要求1所述的文字陰影效果實現方法，其特征在于，所述基于設定的文字陰影效果確定對應的陰影處理方式，包括：

基于所述實陰影效果確定對所述待處理文本的實陰影處理方式，所述實陰影效果包括單層實陰影效果和/或多層實陰影效果，相應的，所述實陰影處理方式包括單層實陰影處理方式和/或多層實陰影處理方式。

8.根據權利要求7所述的文字陰影效果實現方法，其特征在于，所述基于所述陰影處理方式對所述待處理文本進行文字陰影處理，以得到所述文字陰影效果對應的陰影效果文本，包括：

按照所述單層實陰影處理方式移動畫布的位置，并將文字畫筆的字體顏色設置為陰影顏色；

依據文字布局工具基于所述字體顏色在畫布上繪制所述待處理文本；

將畫布移動到初始位置，并將所述文字畫筆的字體顏色為設定字體顏色；

依據文字布局工具基于所述字體顏色在畫布上繪制所述待處理文本，以得到所述單層實陰影效果對應的陰影效果文本。