[發明專利]指紋識別的方法、裝置和電子設備在審
申請號: | 202011036286.0 | 申請日: | 2020-09-27 |
公開(公告)號: | CN112132072A | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
發明(設計)人: | 胡廣;王偉丞 | 申請(專利權)人: | 深圳市匯頂科技股份有限公司 |
主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
代理公司: | 北京龍雙利達知識產權代理有限公司 11329 | 代理人: | 韓狄;毛威 |
地址: | 518045 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 指紋識別 方法 裝置 電子設備 | ||
1.一種指紋識別的方法,其特征在于,應用于設置于電子設備的顯示屏下方的指紋識別裝置,所述指紋識別裝置包括像素陣列和彩色濾光層,所述像素陣列包括第一類像素點和第二類像素點,所述彩色濾光層設置在所述第二類像素點上方,所述方法包括:
確定初始指紋圖像中的摩爾紋的角度和周期,其中,所述初始指紋圖像包括所述第一類像素點的數據和所述第二類像素點的數據,所述第一類像素點的數據由第一光信號生成,所述第二類像素點的數據由第二光信號生成,所述第一光信號為所述第一類像素點接收的經由所述顯示屏上方的待識別物體反射或散射而返回的光信號,所述第二光信號為所述第二類像素點接收的經由所述待識別物體反射或散射而返回的光信號;
根據所述摩爾紋的角度和周期,對所述第二類像素點進行回填;
根據所述第一類像素點的數據和回填后的所述第二類像素點的數據,生成目標指紋圖像,所述目標指紋圖像用于指紋識別。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述確定初始指紋圖像中的摩爾紋的角度和周期,包括:
根據所述初始指紋圖像,獲取目標圖像;
根據所述目標圖像,確定所述摩爾紋的角度和周期。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述根據所述目標圖像,確定所述摩爾紋的角度和周期,包括:
旋轉所述目標圖像,使得所述目標圖像中行均值間的差異最大或列均值間的差異最大;
將所述目標圖像的旋轉角度確定為所述摩爾紋的角度,將所述目標圖像的兩個谷或兩個脊之間的間隔為所述摩爾紋的周期;
其中,谷為行均值均低于上下兩行的行或列均值均低于左右兩列的列,脊為行均值均高于上下兩行的行或列均值均高于左右兩列的列。
4.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述根據所述目標圖像,確定所述摩爾紋的角度和周期,包括:
對所述目標圖像進行二維傅里葉變換,得到頻譜圖;
根據所述頻譜圖,確定所述摩爾紋的角度和周期。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述頻譜圖中的幅值最大的點為目標頻點,所述目標頻點相對于所述頻譜圖中心位置的距離為所述摩爾紋的周期,所述目標頻點相對于所述頻譜圖中心位置的角度為所述摩爾紋的角度。
6.根據權利要求2至5中任一項所述的方法,其特征在于,所述目標圖像為所述初始指紋圖像中間區域的指紋圖像。
7.根據權利要求2至5中任一項所述的方法,其特征在于,在所述根據所述目標圖像,確定所述摩爾紋的角度和周期之前,所述方法還包括:
對所述目標圖像進行高通濾波,以去除所述第一類像素點的數據和所述第二類像素點的數據的干擾。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述摩爾紋的角度和周期,對所述第二類像素點進行回填,包括:
根據所述摩爾紋的角度和周期,采用雙線性插值算法或最近鄰插值算法對所述第二類像素點進行回填。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述根據所述摩爾紋的角度和周期,采用雙線性插值算法對所述第二類像素點進行回填,包括:
根據所述摩爾紋的角度和周期,確定待插值點坐標,所述待插值點坐標和所述第二類像素點中的待回填像素點之間的角度為所述摩爾紋的角度,所述待插值點坐標與所述待回填像素點之間的距離為所述摩爾紋的周期的整數倍;
在所述第一類像素點中,在所述待插值點坐標的周圍選擇最靠近所述待插值點坐標的目標像素點,所述目標像素點包括四個像素點;
基于所述目標像素點對所述待回填像素點進行回填。
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