[發(fā)明專利]基于聚精氨酸和聚谷氨酸逐層修飾的納米孔制備pH響應(yīng)的納米流體二極管方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011035540.5 | 申請日: | 2020-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN112179955A | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安鵬榮;李君;謝彥博 | 申請(專利權(quán))人: | 西北工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G01N27/12 | 分類號: | G01N27/12;B82Y40/00;B82Y15/00 |
| 代理公司: | 西北工業(yè)大學(xué)專利中心 61204 | 代理人: | 王鮮凱 |
| 地址: | 710072 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 精氨酸 谷氨酸 修飾 納米 制備 ph 響應(yīng) 流體 二極管 方法 | ||
1.一種基于聚精氨酸修飾的納米孔制備pH響應(yīng)的納米流體二極管的方法,其特征在于步驟如下:
步驟1:將重離子輻照過的PET膜除去膜表面的灰塵和雜質(zhì);
步驟2:用化學(xué)刻蝕的方法在PET薄膜刻蝕納米孔,在0.5mg/mL的PLR溶液中浸泡6h后沖洗干凈、晾干,再放到60℃的烘箱中3h,PET薄膜上的納米孔為聚精氨酸修飾的固態(tài)納米孔,在pH作用下具有陰離子選擇性的納米流體二極管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于聚精氨酸修飾的納米孔制備pH響應(yīng)的納米流體二極管的方法,其特征在于:將聚精氨酸修飾的納米孔在0.5mg/mL的聚谷氨酸溶液中浸泡6h后沖洗干凈、晾干,再放到60℃的烘箱中3h,PET薄膜上的納米孔為聚精氨酸和聚谷氨酸逐層修飾的固態(tài)納米孔,在pH作用下具有陽離子離子選擇性的納米流體二極管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述納米孔為采用不對稱刻蝕法得到的單錐形納米孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:所述在pH作用下具有陰離子選擇性的納米流體二極管時(shí)pH為2.2~11。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于:所述在pH作用下具有陽離子離子選擇性的納米流體二極管時(shí)pH為1.5~9.8。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:所述步驟1除去膜表面的灰塵和雜質(zhì)PET膜再在紫外燈下每面輻照1.5h。
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