[發(fā)明專利]機(jī)器學(xué)習(xí)模型優(yōu)化的方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011032342.3
• 申請(qǐng)日: 2020-09-27
• 公開（公告）號(hào): CN112183321A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李立賽;傅東生;馬量;盧東占;彭宏飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳奇跡智慧網(wǎng)絡(luò)有限公司
• 主分類號(hào): G06K9/00
• 分類號(hào): G06K9/00;G06K9/62;G06N3/08;G06N20/20
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 毛丹

1.一種機(jī)器學(xué)習(xí)模型優(yōu)化的方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取至少兩張第一圖片；

當(dāng)模型庫(kù)中的機(jī)器學(xué)習(xí)模型無法識(shí)別所述第一圖片時(shí)，根據(jù)輸入的標(biāo)注指令對(duì)所述第一圖片進(jìn)行標(biāo)注，得到第一標(biāo)簽；

根據(jù)所述第一圖片和所述第一標(biāo)簽對(duì)所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型；

基于所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)獲取的第二圖片進(jìn)行預(yù)標(biāo)注，得到第二標(biāo)簽；

當(dāng)所述第二標(biāo)簽通過標(biāo)注驗(yàn)證時(shí)，根據(jù)所述第二圖片和所述第二標(biāo)簽對(duì)所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行訓(xùn)練優(yōu)化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

當(dāng)模型庫(kù)中的機(jī)器學(xué)習(xí)模型無法識(shí)別所述第一圖片時(shí)，對(duì)所述第一圖片進(jìn)行去重處理；

在去重處理后的第一圖片中刪除分辨率低于預(yù)設(shè)分辨閾值的圖片，得到目標(biāo)圖片；

所述根據(jù)輸入的標(biāo)注指令對(duì)所述第一圖片進(jìn)行標(biāo)注包括：

根據(jù)輸入的標(biāo)注指令對(duì)所述目標(biāo)圖片進(jìn)行標(biāo)注。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述基于所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)獲取的第二圖片進(jìn)行預(yù)標(biāo)注之前，所述方法還包括：

對(duì)經(jīng)過訓(xùn)練優(yōu)化后的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行模型轉(zhuǎn)換，得到邊緣端的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型；

對(duì)所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行封裝，并將封裝后的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型下發(fā)到邊緣端設(shè)備。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述對(duì)經(jīng)過訓(xùn)練優(yōu)化后的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行模型轉(zhuǎn)換之前，所述方法還包括：

獲取測(cè)試圖片和對(duì)應(yīng)的圖片標(biāo)簽；

通過訓(xùn)練優(yōu)化后的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)所述測(cè)試圖片進(jìn)行目標(biāo)識(shí)別，得到識(shí)別結(jié)果；

當(dāng)所述識(shí)別結(jié)果與所述圖片標(biāo)簽一致時(shí)，執(zhí)行所述對(duì)經(jīng)過訓(xùn)練優(yōu)化后的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行模型轉(zhuǎn)換的步驟。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述基于所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)獲取的第二圖片進(jìn)行預(yù)標(biāo)注之前，所述方法還包括：

將所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型下發(fā)至所述模型庫(kù)；

所述基于所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)獲取的第二圖片進(jìn)行預(yù)標(biāo)注包括：

獲取第二圖片，并根據(jù)所述第二圖片從所述模型庫(kù)中選取下發(fā)的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型；

根據(jù)所選取的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)所述第二圖片進(jìn)行預(yù)標(biāo)注。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述基于所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)獲取的第二圖片進(jìn)行預(yù)標(biāo)注之前，所述方法還包括：

對(duì)經(jīng)過訓(xùn)練優(yōu)化后的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行模型轉(zhuǎn)換，得到服務(wù)端的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型；

對(duì)所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行封裝，并將封裝后的目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型下發(fā)到服務(wù)端設(shè)備。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

當(dāng)模型庫(kù)中的機(jī)器學(xué)習(xí)模型能識(shí)別所述第一圖片時(shí)，對(duì)所述第一圖片中的目標(biāo)進(jìn)行檢測(cè)，得到檢測(cè)結(jié)果；

根據(jù)所述檢測(cè)結(jié)果對(duì)所述目標(biāo)進(jìn)行預(yù)標(biāo)注，得到參考標(biāo)簽；

對(duì)所述參考標(biāo)簽進(jìn)行驗(yàn)證；

當(dāng)驗(yàn)證通過時(shí)，根據(jù)所述第一圖片和所述參考標(biāo)簽對(duì)所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型。

8.一種目標(biāo)檢測(cè)識(shí)別裝置，其特征在于，所述裝置包括：

獲取模塊，用于獲取至少兩張第一圖片；

第一標(biāo)注模塊，用于當(dāng)模型庫(kù)中的機(jī)器學(xué)習(xí)模型無法識(shí)別所述第一圖片時(shí)，根據(jù)輸入的標(biāo)注指令對(duì)所述第一圖片進(jìn)行標(biāo)注，得到第一標(biāo)簽；

訓(xùn)練模塊，用于根據(jù)所述第一標(biāo)簽對(duì)所述機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型；

第二標(biāo)注模塊，用于基于所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型對(duì)獲取的第二圖片進(jìn)行預(yù)標(biāo)注，得到第二標(biāo)簽；

優(yōu)化模塊，用于當(dāng)所述第二標(biāo)簽通過標(biāo)注驗(yàn)證時(shí)，根據(jù)所述第二標(biāo)簽對(duì)所述目標(biāo)機(jī)器學(xué)習(xí)模型進(jìn)行訓(xùn)練優(yōu)化。

9.一種計(jì)算機(jī)設(shè)備，包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法的步驟。

10.一種計(jì)算機(jī)可存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法的步驟。