[發明專利]一種磷礦分級制備粉銨和高質量磷銨的方法及生產系統

有效

• 申請號: 202011029514.1
• 申請日: 2020-09-27
• 公開（公告）號: CN112191361B
• 公開（公告）日: 2022-06-21
• 發明（設計）人: 董壽春;程來斌;查炎華;蘇云夢
• 申請（專利權）人: 湖北祥云（集團）化工股份有限公司
• 主分類號: B03B9/00
• 分類號: B03B9/00;B03B7/00;B04C7/00;C01B25/28
• 代理公司: 武漢惠創知識產權代理事務所(普通合伙) 42243
• 代理人: 童思明

1.一種磷礦分級制備粉銨和高質量磷銨的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

(1)經一級旋流器(5)處理得到密度1.25-1.30g/ml和細度100目≥90%的磷礦漿，所述一級旋流器(5)底部的錐度為30-45°；

(2)將步驟(1)得到的磷礦漿送二級旋流器(1)處理分別得到低品位礦漿和高品位礦漿，壓力為0.08-0.12MPa，所述二級旋流器(1)底部的錐度為18-25°；

(3)將步驟(2)得到的高品位礦漿送脫鎂裝置中進行脫鎂處理，脫鎂處理后用于制備高質量磷銨；

(4)將步驟(2)得到的低品位礦漿送濃縮濃密池(2)中將礦漿的密度升高至1.60-1.70g/ml，濃密處理后的礦漿用于制備粉銨；

在步驟(3)中，步驟(2)得到的高品位礦漿與脫鎂劑反應，反應后的礦漿送一次脫鎂濃密池(13)，所述一次脫鎂濃密池(13)的沉降物加入稀釋劑后送二次脫鎂濃密池(15)，所述一次脫鎂濃密池(13)的清液用于制備脫鎂劑和制備氫氧化鎂，所述二次脫鎂濃密池(15)的沉降物用于制備高質量磷銨，所述二次脫鎂濃密池(15)的清液送氫氧化鎂制備裝置用于制備氫氧化鎂，所述二次脫鎂濃密池(15)的沉降物送脫泥機將含水量控制在25%以下，經脫泥機處理得到的泥水送一次脫鎂濃密池(13)，在脫泥機處理得到的泥漿中加入二次脫鎂濃密池(15)的沉降物得到密度為1.76-1.82 g/ml的精礦漿，所述精礦漿用于高質量磷銨；

所述一次脫鎂濃密池(13)的沉降物的密度≥1.65g/ml，所述稀釋劑為磷石膏回水或來自氫氧化鎂制備裝置的母液，所述一次脫鎂濃密池(13)的沉降物與稀釋劑的體積比為0.8-1.2:1。

2.根據權利要求1所述的磷礦分級制備粉銨和高質量磷銨的方法，其特征在于，在步驟(1)中，在球磨后的礦漿中加入磷石膏回水或/和濃縮濃密池(2)的清液將其密度調整至1.30-1.35g/ml，再送至一級旋流器(5)進行處理，處理后的細粒度礦漿送至二級旋流器(1)，粗粒度礦漿返回球磨機(3)。

3.根據權利要求1所述的磷礦分級制備粉銨和高質量磷銨的方法，其特征在于，所述脫鎂劑由一次脫鎂濃密池(13)的清液和濃硫酸制得，根據需要加入工藝水和/或來自氫氧化鎂制備裝置的母液。

4.一種磷礦分級制備粉銨和高質量磷銨的生產系統，其特征在于，所述系統包括：

礦漿制備裝置，用于得到密度1.25-1.30g/ml和細度100目≥90%的磷礦漿；

二級旋流器(1)，用于對礦漿制備裝置輸出的礦漿進行分級分別得到高品位礦漿和低品位礦漿，其底部的錐度為18-25°；

脫鎂裝置，用于對二級旋流器(1)輸出的高品位礦漿進行脫鎂處理；

磷銨生產裝置，用于以脫鎂裝置處理后的礦漿制備高質量磷銨；

濃縮濃密池(2)，用于對二級旋流器(1)輸出的低品位礦漿進行濃縮；

粉銨生產裝置，用于以濃縮濃密池(2)濃縮后的礦漿制備粉銨；

所述脫鎂裝置包括一次清液槽(6)、二次清液槽(7)、清液儲槽(8)、酸化反應槽(9)、酸化液儲槽(10)和依次連接的二號礦漿槽(11)、脫鎂反應槽(12)、一次脫鎂濃密池(13)、一次再漿槽(14)、二次脫鎂濃密池(15)、脫泥機、二次再漿槽與一號礦漿槽(18)，所述二號礦漿槽(11)與二級旋流器(1)的沉降物出口連接，所述一次脫鎂濃密池(13)的清液出口與一次清液槽(6)連接，所述二次脫鎂濃密池(15)的清液出口與二次清液槽(7)連接，所述一次清液槽(6)和二次清液槽(7)與清液儲槽(8)連接，所述一次清液槽(6)、酸化反應槽(9)、酸化液儲槽(10)和脫鎂反應槽(12)依次連接，所述脫泥機的泥水出口與一次脫鎂濃密池(13)的進料口連接，所述二次再漿槽的進料口與二次脫鎂濃密池(15)的沉降物出口連接，所述一號礦漿槽(18)與磷銨生產裝置連接，所述酸化反應槽(9)與硫酸供應裝置連接。