[發明專利]設計圖像評價方法、裝置及電子設備

在審

• 申請號: 202011029341.3
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN112184660A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 陳宇
• 申請（專利權）人: 大方眾智創意廣告（珠海）有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 蔣姍

1.一種設計圖像評價方法，其特征在于，包括：

對待識別設計圖像進行解析，以得到所述待識別設計圖像的分布信息；

獲取所述待識別設計圖像對應類別下的設計圖像樣本集；

對所述設計圖像樣本集中的設計圖像樣本進行解析，以確定出設計圖像的對標標準；

將所述分布信息與所述對標標準進行匹配，以確定出所述待識別設計圖像的評價結果。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對待識別設計圖像進行解析，以得到所述待識別設計圖像的分布信息，包括：

對所述待識別設計圖像的圖層進行識別，以確定出所述待識別設計圖像的圖層數量；

根據所述待識別設計圖像中的各個圖層的尺寸及位置與所述待識別設計圖像的背景的尺寸及位置，確定出所述各個圖層與所述背景的相對位置關系，其中，所述分布信息包括所述圖層數量和所述待識別設計圖像的各個圖層與所述待識別設計圖像的背景的相對位置關系。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述將所述分布信息與所述對標標準進行匹配，以確定出所述待識別設計圖像的評價結果，包括：

將所述圖層數量與所述對標標準中的圖層數量標準進行對比，以確定出所述圖層數量差；

根據所述相對位置關系，確定所述待識別設計圖像中的留白信息；

將所述留白信息與所述對標標準中的留白標準進行對比，以確定出留白誤差信息；

根據所述圖層數量差與所述留白誤差信息，確定出所述待識別設計圖像的評價結果。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述對所述設計圖像樣本集中的設計圖像樣本進行解析，以確定出設計圖像的對標標準，包括：

對所述設計圖像樣本集中的各個設計圖像樣本進行解析，以確定出樣本圖層數量均值以及樣本留白均值；

根據所述樣本圖層數量均值確定出所述圖層數量標準；

根據所述樣本留白均值確定出所述留白標準。

5.根據權利要求1-4任意一項所述的方法，其特征在于，所述分布信息包括：所述待識別設計圖像的各個圖層的圖像位置以及各個圖層的圖像區域尺寸；所述方法還包括：

根據所述各個圖層的圖像位置以及所述各個圖層的圖像區域尺寸，計算出各個圖層中的圖像的邊緣的相對位置關系；

根據所述圖像的邊緣的相對位置關系，確定所述各個圖層中的圖像區域的遮擋狀態數據；

根據所述遮擋狀態數據，為所述待識別設計圖像的評價指標賦予對應的顯示分值；

根據所述顯示分值為更新所述評價結果。

6.根據權利要求1-4任意一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

將所述分布信息與預設所需元素進行對比，以確定所述待識別設計圖像中的信息完成度；

根據所述信息完成度為所述待識別設計圖像的評價指標賦予對應的信息分值；

根據所述信息分值為更新所述評價結果。

7.根據權利要求1-4任意一項所述的方法，其特征在于，所述分布信息包括：圖層位置及圖層標識；所述方法還包括：

對所述圖層標識進行識別，以確定所述待識別設計圖像的標題信息；

將所述標題信息與預設標題標準進行匹配，得到匹配結果；

根據所述匹配結果為所述待識別設計圖像的評價指標賦予對應的標題分值；

根據所述標題分值為更新所述評價結果。

8.一種設計圖像評價方法，其特征在于，包括：

第一解析模塊，用于對待識別設計圖像進行解析，以得到所述待識別設計圖像的分布信息；

獲取模塊，用于獲取所述待識別設計圖像對應類別下的設計圖像樣本集；

第二解析模塊，用于對所述設計圖像樣本集中的設計圖像樣本進行解析，以確定出設計圖像的對標標準；

第一匹配模塊，用于將所述分布信息與所述對標標準進行匹配，以確定出所述待識別設計圖像的評價結果。