[發明專利]一種高壓離子轟擊的真空鍍膜裝置及其鍍膜方法在審
| 申請號: | 202011024806.6 | 申請日: | 2020-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN112126901A | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發明(設計)人: | 張益明;劉宇;其他發明人請求不公開姓名 | 申請(專利權)人: | 張益明 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司: | 太原九得專利代理事務所(普通合伙) 14117 | 代理人: | 王韶 |
| 地址: | 044602 山西省運*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高壓 離子 轟擊 真空鍍膜 裝置 及其 鍍膜 方法 | ||
本發明公開了一種高壓離子轟擊的真空鍍膜裝置及其鍍膜方法,包括底座,所述底座的上表面固定連接有主殼體,所述第一接軸和第二接軸的外表面分別焊接有第一連接桿和第二連接桿,所述第一連接桿的外表面焊接有右旋轉殼體,所述第二連接桿的外表面焊接有左旋轉殼體,所述主殼體的內側壁焊接有第三電機,所述第三電機的輸出軸固定連接有旋轉底座;通過PLC控制器編程將所有電器元件導通,實現自動化控制。通過蒸發器餾分,將鍍膜材料產生化學性的熱性氣體分解成對人體健康無害的不凝氣與水再將其排出。其中水可以在外界提煉后循環利用,不凝氣由導氣管導入進設備內部提供部分熱量與壓力,作為廢物利用。
技術領域
本發明涉及真空鍍膜裝置技術領域,具體為一種高壓離子轟擊的真空鍍膜裝置及其鍍膜方法。
背景技術
高壓離子真空鍍膜器作為物理氣相沉積技術的一個分支,是在真空蒸鍍和真空濺射的基礎上發展起來的一門新型涂層制備技術。它是一種高效、無害、無污染的離子鍍膜設備,具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。因此在材料表面改性領域得到了廣泛應用。它既可以應用于涂敷硬質涂層,如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等;也可以應用于涂敷防護涂層,如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。
隨著該裝置的普及,相關技術問題也接踵而至——鍍膜材料離子真空鍍膜工藝需要的環境為高溫高壓,如果溫度變化則可能造成鍍膜工藝不良;而鍍膜材料在高溫蒸汽情況下會產生化學性的熱性氣體雖然可以滿足裝置的熱量需求,但由于其是有一定毒性的化學性氣體,在其產生后就必須將其排出,避免涂敷在鍍膜裝置上影響人體健康,但是如果使用簡單的散熱系統將其排出,容易對周圍工作人員的健康造成影響。
并且,現有技術的高壓離子真空鍍膜器需要大量電機互相配合,因此通常需要配置一個配電柜,導致其接線與維修極其繁瑣。
基于上述產生的技術問題,提出可以同時改善、互取利弊的新型的一種高壓離子轟擊的真空鍍膜裝置及其鍍膜方法。
發明內容
本發明的目的在于提供高壓離子轟擊的真空鍍膜裝置及其鍍膜方法,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種高壓離子轟擊的真空鍍膜裝置,包括底座,所述底座的上表面固定連接有主殼體,所述主殼體的前表面底部的兩側分別固定連接有第一電機和第二電機,所述第一電機和第二電機的輸出軸分別焊接有第一接軸和第二接軸,所述第一接軸和第二接軸的外表面分別焊接有第一連接桿和第二連接桿,所述第一連接桿的外表面焊接有右旋轉殼體,所述第二連接桿的外表面焊接有左旋轉殼體,所述主殼體的內側壁焊接有第三電機,所述第三電機的輸出軸固定連接有旋轉底座,所述旋轉底座的上表面開設有三個連接口,所述連接口的內側壁固定連接有離子沖擊棒。
作為本技術方案的進一步優選的:所述底座的上表面固定連接有PLC控制器,所述PLC控制器的電性輸出端與第一電機、第二電機、第三電機、六個風扇和排氣扇的電性輸入端電性連接。
作為本技術方案的進一步優選的:所述離子沖擊棒的上表面固定連接有固定盤。
作為本技術方案的進一步優選的:所述旋轉底座的上表面中部焊接有轉軸,所述轉軸的上表面固定連接有固定盤。
作為本技術方案的進一步優選的:所述主殼體的內側壁焊接有風扇底座,所述風扇底座的內側壁固定連接有六個風扇。
作為本技術方案的進一步優選的:所述主殼體的后表面焊接有后端蓋,所述后端蓋的外表面固定連接有導氣管,所述后端蓋的內側壁固定連接有蒸發器,所述蒸發器靠近導氣管的一側固定連接有排氣扇,所述蒸發器的進水口與排水口連通有兩個冷凝管。
作為本技術方案的進一步優選的:所述后端蓋的內側壁固定連接有積水盤,所述積水盤的外表面開設有出水口。
作為本技術方案的進一步優選的:所述主殼體的內表面固定連接有溫度傳感器。
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