[發(fā)明專利]芯片封裝缺陷檢測(cè)方法和檢測(cè)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011024193.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112200776A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 凌云;高麗麗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州加速科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06T7/00 | 分類(lèi)號(hào): | G06T7/00;G06K9/32 |
| 代理公司: | 北京市君合律師事務(wù)所 11517 | 代理人: | 王再芊;畢長(zhǎng)生 |
| 地址: | 311121 浙江省杭州市余杭區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 芯片 封裝 缺陷 檢測(cè) 方法 裝置 | ||
1.一種芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,包括:
獲取待檢測(cè)的芯片圖像;
利用基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)模型,從所述待檢測(cè)的芯片圖像中獲得目標(biāo)位置信息;
根據(jù)所述目標(biāo)位置信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述目標(biāo)位置信息包括芯片引腳位置信息,根據(jù)所述目標(biāo)位置信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷包括:
根據(jù)所述芯片引腳位置信息,確定引腳數(shù)量和引腳間距;
根據(jù)引腳數(shù)量和引腳間距,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述目標(biāo)位置信息還包括引腳標(biāo)記位置信息,根據(jù)所述目標(biāo)位置信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷還包括:根據(jù)所述引腳標(biāo)記位置信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述方法還包括:
利用基于深度學(xué)習(xí)的光學(xué)字符識(shí)別網(wǎng)絡(luò)模型,從所述芯片圖像獲得芯片的文字信息;
根據(jù)所述文字信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)模型包括MobileNet模塊和普通卷積模塊。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)模型是通過(guò)以下步驟訓(xùn)練得到的:
將經(jīng)人工標(biāo)記的訓(xùn)練圖像輸入到基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò),獲得向前傳播的結(jié)果;
將向前傳播的結(jié)果與人工標(biāo)記的類(lèi)別信息以及待檢測(cè)的目標(biāo)坐標(biāo)進(jìn)行比較,獲得誤差信息;
通過(guò)將所述誤差信息進(jìn)行反向傳播,優(yōu)化基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò),獲得基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)模型。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述基于深度學(xué)習(xí)的光學(xué)字符識(shí)別網(wǎng)絡(luò)模型是通過(guò)以下步驟訓(xùn)練得到的:
將經(jīng)人工標(biāo)記的訓(xùn)練圖像輸入到基于深度學(xué)習(xí)的光學(xué)字符識(shí)別網(wǎng)絡(luò),獲得向前傳播的結(jié)果;
將向前傳播的結(jié)果與人工標(biāo)記的字符類(lèi)別信息進(jìn)行比較,獲得誤差信息;
通過(guò)將所述誤差信息進(jìn)行反向傳播,優(yōu)化基于深度學(xué)習(xí)的光學(xué)字符識(shí)別網(wǎng)絡(luò),獲得基于深度學(xué)習(xí)的光學(xué)字符識(shí)別網(wǎng)絡(luò)模型。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,所述訓(xùn)練圖像包括有缺陷的芯片圖像和無(wú)缺陷的芯片圖像。
9.一種芯片封裝缺陷檢測(cè)裝置,包括:
獲取單元,用于獲取待檢測(cè)的芯片圖像;
檢測(cè)單元,用于利用基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)模型,從所述待檢測(cè)的芯片圖像中獲得目標(biāo)位置信息;
第一判斷單元,用于根據(jù)所述目標(biāo)位置信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述目標(biāo)位置信息包括芯片引腳位置信息。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述目標(biāo)位置信息還包括引腳標(biāo)記位置信息,所述第一判斷單元進(jìn)一步被配置為:根據(jù)所述引腳標(biāo)記位置信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述裝置還包括:
識(shí)別單元,用于利用基于深度學(xué)習(xí)的光學(xué)字符識(shí)別網(wǎng)絡(luò)模型,從所述芯片圖像獲得芯片的文字信息;
第二判斷單元,用于根據(jù)所述文字信息,判斷所述待檢測(cè)的芯片的缺陷。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的芯片封裝缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于,所述基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)模型包括MobileNet模塊和普通卷積模塊。
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