[發(fā)明專利]一種用于頻率變換的整體光學(xué)諧振腔有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011023292.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112130395B | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張寬收;姜振宇;馮晉霞;李淵驥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山西大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02F1/35 | 分類號(hào): | G02F1/35 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 崔玥 |
| 地址: | 030000 山西省*** | 國(guó)省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 頻率 變換 整體 光學(xué) 諧振腔 | ||
本發(fā)明公開了一種用于頻率變換的整體光學(xué)諧振腔。該整體光學(xué)諧振腔包括:外殼、可調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)裝置、控溫裝置以及設(shè)在控溫裝置中的非線性晶體;可調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)裝置包括的第一平凹鏡、第二平凹鏡以及非線性晶體構(gòu)成光學(xué)諧振腔;光線依次通過第一平凹鏡、非線性晶體以及第二平凹鏡。本發(fā)明通過整體化設(shè)計(jì)提高光學(xué)諧振腔的腔長(zhǎng)穩(wěn)定性,并通過控溫裝置提高整體光學(xué)諧振腔中非線性晶體的溫度穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)了腔內(nèi)參與頻率變換過程的光場(chǎng)之間穩(wěn)定的相對(duì)位相控制。同時(shí)通過可調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)裝置實(shí)現(xiàn)整體光學(xué)諧振腔腔長(zhǎng)的精確控制。實(shí)現(xiàn)了光學(xué)頻率變換過程中,相位匹配條件、阻抗匹配和模式匹配的最佳條件,獲得高非線性轉(zhuǎn)換效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)諧振腔領(lǐng)域,特別是涉及一種用于頻率變換的整體光學(xué)諧振腔。
背景技術(shù)
光學(xué)頻率變換過程在經(jīng)典光學(xué)和量子光學(xué)等領(lǐng)域都是非常重要必不可少的手段。在光學(xué)頻率變換過程中,高的非線性效率是大家所追求的重要指標(biāo)之一。利用高效率的光學(xué)頻率變換過程可以獲得高功率輸出的短波段、中紅外和遠(yuǎn)紅外波段激光,可為光刻技術(shù)、激光雷達(dá)等關(guān)鍵技術(shù)突破提供必需且優(yōu)質(zhì)的激光光源。利用高效率的光學(xué)頻率變換過程還可以獲得穩(wěn)定輸出的高質(zhì)量量子糾纏態(tài)光場(chǎng)和壓縮態(tài)光場(chǎng),可為量子精密測(cè)量、量子信息處理、量子計(jì)算機(jī)等科學(xué)研究方面提供必需的高質(zhì)量量子光源。
目前,常用的高效率光學(xué)頻率變換過程裝置通常采用分離元件構(gòu)建。如中國(guó)發(fā)明專利201711487633X中涉及的“一種高轉(zhuǎn)換效率的長(zhǎng)波紅外光學(xué)參量振蕩器”和文獻(xiàn)“高效率外腔倍頻產(chǎn)生低噪聲連續(xù)單頻780nm激光,中國(guó)激光,41(5):0502003(2014)”,是由兩個(gè)或多個(gè)光學(xué)腔鏡和非線性晶體分離放置搭建成用于光學(xué)頻率變換的諧振腔。兩鏡駐波腔結(jié)構(gòu)是由輸入凹面鏡、輸出凹面鏡組成,其中心處于同一直線上,在腔內(nèi)同一直線上放置非線性晶體構(gòu)成用于光學(xué)頻率變換的諧振腔。環(huán)形腔是由輸入凹面鏡、輸出凹面鏡和多個(gè)平面反射鏡構(gòu)成環(huán)形結(jié)構(gòu),鏡子以Z字型或8字型等放置,非線性晶體放置在環(huán)形腔內(nèi)構(gòu)成用于光學(xué)頻率變換的諧振腔。
上述方案中,光學(xué)腔鏡、非線性晶體都是分離獨(dú)立放置的,整個(gè)裝置對(duì)外界環(huán)境的干擾敏感,從而影響光學(xué)頻率變換過程的非線性轉(zhuǎn)換效率。比如,外界機(jī)械振動(dòng)、空氣流動(dòng)、溫度變化都會(huì)引起光學(xué)諧振腔內(nèi)兩個(gè)光場(chǎng)之間相對(duì)位相的變化,不滿足最佳相位匹配條件;而且這些因素也會(huì)導(dǎo)致光學(xué)諧振腔腔長(zhǎng)的變化,引起模式匹配的變化。分離的光學(xué)元件裝置也不可能有效保持光學(xué)元件的潔凈度,受到外界灰塵等污染的光學(xué)腔鏡和非線性晶體會(huì)導(dǎo)致整個(gè)諧振腔的損耗增大。上述因素都會(huì)導(dǎo)致光學(xué)頻率變換過程的非線性轉(zhuǎn)換效率大幅降低。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,本發(fā)明的目的是提供一種用于頻率變換的整體光學(xué)諧振腔,用以實(shí)現(xiàn)光學(xué)頻率變換過程中,相位匹配、阻抗匹配和模式匹配的最佳條件,獲得高非線性轉(zhuǎn)換效率,并且整個(gè)光學(xué)諧振腔一體化的設(shè)計(jì)能夠保證里面的光學(xué)腔鏡和非線性晶體的潔凈度,使得光學(xué)諧振腔的精細(xì)度保持不變。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下方案:
一種用于頻率變換的整體光學(xué)諧振腔,包括:外殼、可調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)裝置、控溫裝置以及設(shè)在所述控溫裝置中的非線性晶體;所述可調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)裝置設(shè)置在所述外殼的兩端;所述控溫裝置設(shè)置在所述外殼中;
所述可調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)裝置包括第一平凹鏡和第二平凹鏡;所述第一平凹鏡、所述第二平凹鏡以及所述非線性晶體構(gòu)成光學(xué)諧振腔;光線依次通過所述第一平凹鏡、所述非線性晶體以及所述第二平凹鏡。
進(jìn)一步地,所述外殼包括U型底座和U型蓋,所述U型底座設(shè)有凹槽,所述U型蓋以封閉所述U型底座的凹槽兩側(cè)及上部開口的方式設(shè)置于所述U型底座的上方;所述控溫裝置設(shè)置在所述U型底座的凹槽中。
進(jìn)一步地,所述可調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)裝置包括可調(diào)鏡套、第一鏡座、壓電陶瓷、第一平凹鏡、第二鏡座、第二平凹鏡;
所述可調(diào)鏡套設(shè)置于所述U型底座的左端通光孔處,所述第一鏡座設(shè)置于所述可調(diào)鏡套的通光孔內(nèi);所述U型底座的左端面的凸面螺紋與所述可調(diào)鏡套的右內(nèi)面的凹面螺紋相互咬合,通過旋轉(zhuǎn)螺紋實(shí)現(xiàn)光學(xué)諧振腔的腔長(zhǎng)的調(diào)節(jié);
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





