[發明專利]涂布顯影裝置和涂布顯影方法

有效

• 申請號: 202011021474.6
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN112596351B
• 公開（公告）日: 2023-01-31
• 發明（設計）人: 渡邊剛史;土山正志;佐藤寬起;濱田一平
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發明提供一種涂布顯影裝置和涂布顯影方法。所述涂布顯影裝置具備：處理塊，其設置有對基板進行處理的處理模塊；以及中繼塊，其將所述處理塊與所述曝光裝置沿寬度方向進行連結，其中，所述中繼塊設置有進行基板的搬入和搬出的搬入搬出機構，所述處理塊沿上下方向被進行多層化，所述處理塊在沿所述寬度方向延伸的搬送區域設置搬送機構，在所述處理塊中的、所述中繼塊的所述搬入搬出機構可訪問的高度位置的層中，在所述中繼塊側端設置有交接部，在與所述寬度方向正交的深度方向上隔著所述搬送區域設置的兩個區域中的至少一個區域，沿所述寬度方向設置有多個曝光前收容部，在所述兩個區域中的未設置所述曝光前收容部的部分設置有非處理單元。

技術領域

本公開涉及一種涂布顯影裝置和涂布顯影方法。

背景技術

在專利文獻1中公開了一種基板處理裝置，其具備：第一處理塊和第二處理塊，在所述第一處理塊和第二處理塊設置有用于在基板上形成抗蝕膜的涂布處理單元等；以及接口塊，其配置于這些處理塊與通過液浸法進行曝光處理的曝光裝置之間。該基板處理裝置的接口塊具有設置有針對曝光裝置進行基板的搬入和搬出的搬送機構的塊以及設置有用于載置曝光處理前后的基板的基板載置部、載置兼冷卻部的塊。而且，按照上述第一處理塊、第二處理塊、設置有搬送機構的塊以及設置有載置部、載置兼冷卻部的塊沿一個方向按所記載的順序配置。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-219434號公報

發明內容

發明要解決的問題

本公開所涉及的技術提供一種能夠應對高生產率的處理的小型的涂布顯影裝置。

用于解決問題的方案

本公開的一個方式是一種涂布顯影裝置，在基板形成抗蝕膜并將該基板搬送至曝光裝置，之后對通過該曝光裝置進行了曝光的基板進行顯影處理，所述涂布顯影裝置具備：處理塊，其設置有對曝光前或曝光后的基板進行處理的處理模塊；以及中繼塊，其將所述處理塊與所述曝光裝置沿寬度方向進行連結，其中，所述中繼塊設置有針對所述曝光裝置進行基板的搬入和搬出的搬入搬出機構，所述處理塊沿上下方向被進行多層化，所述處理塊在沿所述寬度方向延伸的搬送區域設置搬送基板的搬送機構，在所述處理塊中的、所述中繼塊的所述搬入搬出機構可訪問的高度位置的層中，在所述中繼塊側端設置有用于在兩個塊間交接基板時載置該基板的交接部，在與所述寬度方向正交的深度方向上隔著所述搬送區域設置的兩個區域中的至少一個區域，沿所述寬度方向設置有多個用于收容曝光前的基板的曝光前收容部，在所述兩個區域中的未設置所述曝光前收容部的部分設置有不會對基板帶來狀態變化的非處理單元。

發明的效果

根據本公開，能夠提供一種能夠應對高生產率的處理的小型的涂布顯影裝置。

附圖說明

圖1是示意性地表示本實施方式所涉及的涂布顯影裝置的結構的概要的俯視圖。

圖2是示意性地表示本實施方式所涉及的涂布顯影裝置的內部結構的概要的縱剖主視圖。

圖3是示意性地表示本實施方式所涉及的涂布顯影裝置的結構的概要的主視圖。

圖4是示意性地表示本實施方式所涉及的涂布顯影裝置的結構的概要的后視圖。

圖5是示意性地表示本實施方式所涉及的涂布顯影裝置的左側子塊具有的第三層塊的內部結構的概要的俯視圖。

圖6是示意性地表示本實施方式所涉及的涂布顯影裝置的右側子塊具有的第一層塊的內部結構的概要的俯視圖。