[發(fā)明專利]一種成像系統(tǒng)、方法及放射治療系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011018090.9
• 申請(qǐng)日: 2020-09-24
• 公開（公告）號(hào): CN112221022A
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 閆浩;李金升;陳方正;李大梁
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安大醫(yī)集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): A61N5/10
• 分類號(hào): A61N5/10;A61B6/12;A61B6/00
• 代理公司: 北京合智同創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11545
• 代理人: 李杰

1.一種成像系統(tǒng)，其特征在于，用于對(duì)患者進(jìn)行成像，包括：球管以及平板探測(cè)器，所述球管與所述平板探測(cè)器相對(duì)設(shè)置，所述球管發(fā)射X射線，所述平板探測(cè)器探測(cè)所述X射線生成圖像數(shù)據(jù)，所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影存在偏移量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述球管和/或所述平板探測(cè)器的安裝位置或所述平板探測(cè)器的運(yùn)動(dòng)裝置令所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影存在偏移量。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述運(yùn)動(dòng)裝置可以實(shí)現(xiàn)平移運(yùn)動(dòng)或旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述運(yùn)動(dòng)裝置將運(yùn)動(dòng)所產(chǎn)生的偏移量發(fā)送至對(duì)應(yīng)正投影算法的接口，以生成對(duì)應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述算法包括模擬正投影算法或重建算法。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影在患者頭腳方向存在偏移量。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影在患者的腳部方向存在偏移量。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影偏向患者的腳部方向存在第一偏移量。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影向遠(yuǎn)離感興趣成像區(qū)域的方向偏移。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，如果感興趣成像區(qū)域位于患者頭部，則所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影朝著患者腳部方向存在第二偏移量。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，如果感興趣成像區(qū)域位于患者身體部位，則所述平板探測(cè)器的幾何中心相對(duì)于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影朝著與患者身體部位相反的方向存在第三偏移量。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述感興趣成像區(qū)域和所述平板探測(cè)器的幾何中心分別位于所述球管的焦點(diǎn)在所述平板探測(cè)器上的正投影的不同側(cè)。

13.根據(jù)權(quán)利要求8或10或11所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第一偏移量、所述第二偏移量或所述第三偏移量小于等于所述平板探測(cè)器長(zhǎng)度或?qū)挾鹊?/4。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第一偏移量、所述第二偏移量或所述第三偏移量小于等于所述平板探測(cè)器長(zhǎng)度或?qū)挾鹊?/2。

15.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第一偏移量、所述第二偏移量或所述第三偏移量小于等于200mm。

16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第一偏移量、所述第二偏移量或所述第三偏移量小于等于100mm。

17.一種放射治療系統(tǒng)，其特征在于，包括腫瘤治療裝置以及如權(quán)利要求1-16任一項(xiàng)所述的成像系統(tǒng)。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述放射治療系統(tǒng)，其特征在于，所述成像系統(tǒng)的成像區(qū)域與所述腫瘤治療裝置的治療區(qū)域至少部分地重合。