[發(fā)明專利]一種體積渲染方法、裝置、存儲介質(zhì)及計算機設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011017777.0
• 申請日: 2020-09-24
• 公開（公告）號: CN112138386A
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 盤琪
• 申請（專利權(quán)）人: 網(wǎng)易（杭州）網(wǎng)絡(luò)有限公司
• 主分類號: A63F13/525
• 分類號: A63F13/525;G06T15/00;G06T15/04;G06T15/06
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 遠(yuǎn)明

1.一種體積渲染方法，其特征在于，包括：

將待渲染模型體素化為若干體素格；

劃分具有預(yù)定分辨率的像素貼圖區(qū)域，使所述像素貼圖區(qū)域分割為預(yù)定數(shù)量的方塊；

將所述方塊的任意一個頂點N_i的位置映射為三維坐標(biāo)系中每個用于對所述體素格進行體積采樣的采樣相機的位置P_j，所述進行體積采樣獲取的體積采樣數(shù)據(jù)包括沿所述采樣相機的采樣方向獲取的所述體素格的累積濃度d、所述體素格的正向深度f_d和所述體素格的反向深度b_d；

在所述頂點N_i的位置保存所述位置P_j處采樣相機獲取的體積采樣數(shù)據(jù)；

按照渲染相機的視角，匹配所述采樣相機獲取的體積采樣數(shù)據(jù)后對所述待渲染模型進行渲染。

2.如權(quán)利要求1所述體積渲染方法，其特征在于，所述劃分具有預(yù)定分辨率的像素貼圖區(qū)域，使所述像素貼圖區(qū)域分割為預(yù)定數(shù)量的方塊之后，所述方法還包括：

將所述像素貼圖區(qū)域分割的預(yù)定數(shù)量的方塊映射至中心在二維坐標(biāo)系原點的正方形區(qū)域；

記錄所述每個方塊任一頂點N_i在所述正方形區(qū)域的坐標(biāo)(x_i，y_i)。

3.如權(quán)利要求2所述體積渲染方法，其特征在于，所述將所述方塊的任意一個頂點N_i的位置映射為三維坐標(biāo)系中每個用于對所述體素格進行體積采樣的采樣相機的位置P_j，包括：

將所述頂點N_i的位置映射至半球體的球面上的一個視點，所述視點為所述采樣相機的位置P_j并作為所述采樣相機對所述體素格進行體積采樣的采樣方向的起點，所述半球體至少能夠包圍所述待渲染模型。

4.如權(quán)利要求3所述體積渲染方法，其特征在于，所述將所述頂點N_i的位置映射至半球體的球面上的一個視點，包括：

求取所述頂點N_i的坐標(biāo)x_i與y_i之和的均值E₁，以及坐標(biāo)x_i與y_i之差的均值E₂；

以E₁-0.5、1-|E₁|-|E₂|以及E₂作為歸一化函數(shù)的參數(shù)，求取所述歸一化函數(shù)的函數(shù)值，所述函數(shù)值作為所述視點在所述三維坐標(biāo)系中的坐標(biāo)(p_x，p_y，p_z)，所述|E₁|為所述E₁的絕對值，所述|E₂|為所述E₂的絕對值。

5.如權(quán)利要求1所述體積渲染方法，其特征在于，所述在所述頂點N_i的位置保存所述位置P_j處采樣相機獲取的體積采樣數(shù)據(jù)，包括：

在所述頂點N_i的位置對應(yīng)的像素貼圖上，將所述位置P_j處采樣相機獲取的所述體素格的累積濃度d、所述體素格的正向深度f_d和所述體素格的反向深度b_d分別存儲為所述像素貼圖的RGB通道的R通道值、G通道值和B通道值。