[發明專利]一種具有共軛微孔結構的聚酞菁類光限幅材料及其制備方法在審
| 申請號： | 202011015968.3 | 申請日： | 2020-09-24 |
| 公開（公告）號： | CN112159518A | 公開（公告）日： | 2021-01-01 |
| 發明（設計）人： | 王挺峰;黃文博;孫濤;湯偉 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | C08G61/12 | 分類號： | C08G61/12 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 藏斌 |
| 地址： | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 共軛 微孔 結構 聚酞菁類光 限幅 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種具有共軛微孔結構的聚酞菁類光限幅材料，由式(i)所示重復單元構成；相鄰重復單元共享苯環，形成苯撐結構：
式(i)中，M為金屬原子。
2.根據權利要求1所述的聚酞菁類光限幅材料，其特征在于，M為Fe、In、Co或Ni。
3.一種權利要求1所述的具有共軛微孔結構的聚酞菁類光限幅材料的制備方法，包括以下步驟：
將1,2,4,5-四氰基苯、金屬氯化物和催化劑在溶劑中混合后，在保護氣體氣氛下加熱反應，得到具有共軛微孔結構的聚酞菁類光限幅材料。
4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述金屬氯化物為三氯化鐵、三氯化銦、二氯化鈷或二氯化鎳。
5.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述1,2,4,5-四氰基苯和金屬氯化物的摩爾比為1：(0.3～0.8)。
6.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述催化劑為1,8-二氮雜二環[5,4,0]十一碳-7-烯；所述溶劑為乙二醇。
7.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述1,2,4,5-四氰基苯與催化劑的摩爾比為1：(0.5～2)。
8.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述1,2,4,5-四氰基苯與溶劑的用量比為(0.005～0.05)mmol：10mL。
9.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述加熱反應的加熱方式為微波加熱；所述加熱反應的溫度為160～200℃；所述加熱反應的時間為0.5～2h。
10.根據權利要求3～9任一項所述的制備方法，其特征在于，還包括：
加熱反應結束后，將得到的反應產物依次進行洗滌、雜質提取和干燥，得到具有共軛微孔結構的聚酞菁類光限幅材料。
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