[發明專利]柔性透明導電薄膜的制備方法有效
| 申請號: | 202011015699.0 | 申請日: | 2020-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN112201408B | 公開(公告)日: | 2022-07-08 |
| 發明(設計)人: | 王凱卿;金云霞;肖斐 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00 |
| 代理公司: | 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成麗杰 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柔性 透明 導電 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,
包括如下步驟:
S1:在剛性基底上涂布金屬納米線薄膜;
S2:在金屬納米線薄膜上覆蓋掩模;
S3A:選擇性地使掩模鏤空區域的金屬納米線薄膜結合氧化石墨烯層:S311:將氧化石墨烯分散液涂膜于覆蓋有掩模的金屬納米線薄膜表面,使掩模鏤空區域的金屬納米線薄膜結合氧化石墨烯層;S312:移除掩模;
S4A:使用表面可粘附的柔性基底,粘附結合有氧化石墨烯層的金屬納米線薄膜并從剛性基底上剝離,得到具有掩模鏤空區域圖案的柔性透明導電薄膜;
或包括如下步驟:
S1:在剛性基底上涂布金屬納米線薄膜;
S2:在金屬納米線薄膜上覆蓋掩模;
S3B:選擇性地使掩模覆蓋區域的金屬納米線薄膜結合氧化石墨烯層:S321:對覆蓋有掩模的金屬納米線薄膜進行紫外臭氧處理或等離子體清洗處理,使掩模鏤空區域的金屬納米線薄膜失去與氧化石墨烯的粘附力;S322:移除掩模;S323:將氧化石墨烯分散液涂膜于銀納米線薄膜表面,使掩模覆蓋區域的金屬納米線薄膜結合氧化石墨烯層;
S4B:使用表面可粘附的柔性基底,粘附結合有氧化石墨烯層的金屬納米線薄膜并從剛性基底上剝離,得到具有掩模覆蓋區域圖案的柔性透明導電薄膜。
2.根據權利要求1所述的柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,所述步驟S4A使用表面可粘附的柔性基底,粘附結合有氧化石墨烯層的金屬納米線薄膜并從剛性基底上剝離,得到柔性透明導電薄膜之后,還包括:
S5A:將氧化石墨烯分散液涂膜于遺留在剛性基底上的金屬納米線薄膜表面;
S6A:使用表面可粘附的柔性基底,粘附結合有氧化石墨烯層的金屬納米線薄膜并從剛性基底上剝離,得到具有掩模覆蓋區域圖案的柔性透明導電薄膜。
3.根據權利要求1至2中任一項所述的柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,所述剛性基底選自玻璃或硅片。
4.根據權利要求1至2中任一項所述的柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,所述金屬納米線薄膜為銀納米線薄膜。
5.根據權利要求4所述的柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,所述銀納米線的直徑為20~100nm,長度為10~100μm。
6.根據權利要求1至2中任一項所述的柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,所述氧化石墨烯分散液的濃度為0.5~5mg/ml;所述氧化石墨烯分散液通過滴涂、浸涂、噴涂或旋涂的方式涂膜于金屬納米線薄膜表面。
7.根據權利要求1至2中任一項所述的柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,所述表面可粘附的柔性基底為表面涂覆有膠水的柔性基底或透明膠帶。
8.根據權利要求7所述的柔性透明導電薄膜的制備方法,其特征在于,所述柔性基底選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚酰亞胺、聚二甲基硅氧烷、聚乙烯醇、聚氨基甲酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
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