[發(fā)明專利]基于光場高階空間關(guān)聯(lián)的單次曝光X射線衍射成像裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011014594.3 | 申請日: | 2020-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN112198176B | 公開(公告)日: | 2022-12-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 談志杰;喻虹;朱瑞國;韓申生 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號: | G01N23/2055 | 分類號: | G01N23/2055 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 光場高階 空間 關(guān)聯(lián) 曝光 射線 衍射 成像 裝置 方法 | ||
1.一種基于光場高階空間關(guān)聯(lián)的單次曝光X射線衍射成像方法,其特征在于,該成像方法是利用基于光場高階空間關(guān)聯(lián)的單次曝光X射線衍射成像裝置實(shí)現(xiàn)的,該成像裝置包括X射線源(1)、分束裝置(2)、參考臂光闌(3),X射線面陣探測器(5)和計算機(jī)(6);所述的X射線面陣探測器(5)包括X射線參考臂面陣探測器(501)和X射線探測臂面陣探測器記錄(502);
所述的X射線源(1)發(fā)出的光經(jīng)過分束裝置(2)分為參考光與探測光,參考光沿參考臂光軸方向經(jīng)過參考臂光闌(3),其光強(qiáng)空間分布被X射線參考臂面陣探測器(501)所接受,探測光沿探測臂光軸方向經(jīng)過待測物體(4),其光強(qiáng)空間分布被X射線探測臂面陣探測器(502)所接受;參考臂光闌(3)與待測物體(4)距離X射線源(1)的距離相等;X射線參考臂面陣探測器(501)與X射線探測臂面陣探測器(502)距離X射線源(1)的距離相等;
所述的計算機(jī)(6)分別與X射線參考臂面陣探測器(501)、X射線探測臂面陣探測器(502)相連,具有對采集到的光強(qiáng)空間分布進(jìn)行關(guān)聯(lián)運(yùn)算的程序;
該成像方法包括以下步驟:
1調(diào)節(jié)X射線源(1)、分束裝置(2)、X射線參考臂面陣探測器(501)、X射線探測臂面陣探測器(502)處于同一高度,且兩個探測器距離X射線源(1)的距離相等,距離為d;
2將參考臂光闌(3)放入?yún)⒖脊饴分校渚郮射線參考臂面陣探測器(501)距離為d2,調(diào)節(jié)其與光路同軸;
3將待測物體(4)放入探測光路中,其距X射線探測臂面陣探測器(502)距離為d2,調(diào)節(jié)其與光路同軸;
4在X射線源(1)的一個相干時間內(nèi),X射線參考臂面陣探測器(501)和X射線探測臂面陣探測器(502)曝光一次,獲得參考臂光強(qiáng)分布圖像和探測臂光強(qiáng)分布圖像,分別為Ir(x,y)和It(x,y),其中x,y為X射線面陣探測器的空間坐標(biāo);
5對參考臂光強(qiáng)分布圖像和探測臂光強(qiáng)分布圖像進(jìn)行光場高階空間關(guān)聯(lián)運(yùn)算,具體方法是:
①計算參考臂光強(qiáng)分布圖像Ir(x,y)和探測臂光強(qiáng)分布圖像It(x,y)的空間關(guān)聯(lián)函數(shù)G(Δx,Δy):
G(Δx,Δy)=∫∫Ir(x,y)It(x+Δx,y+Δy)dxdy
通過傅里葉變換,空間關(guān)聯(lián)函數(shù)可以通過下式計算:
其中和分別表示的是傅里葉變換操作與逆傅里葉變換操作;
②對空間關(guān)聯(lián)函數(shù)G(Δx,Δy)進(jìn)行歸一化,歸一化常數(shù)C為參考臂光強(qiáng)求和與探測臂光強(qiáng)求和的乘積,計算式如下:
C=∫∫Ir(x,y)dxdy×∫∫It(x,y)dxdy
歸一化后的空間關(guān)聯(lián)函數(shù)g(Δx,Δy)為:
歸一化的空間關(guān)聯(lián)函數(shù)與待測物體復(fù)透過率函數(shù)t(xo,yo)的傅里葉變換的模的平方成正比:
6利用5中得到的待測物體的傅里葉信息,通過相位恢復(fù)得到待測物體的實(shí)空間分布信息。
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