[發(fā)明專利]一種IBC太陽能電池結(jié)構(gòu)及其制備工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011011919.2 | 申請日: | 2020-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN111987225A | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙保星;魏青竹;倪志春;張樹德;符欣;連維飛 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州騰暉光伏技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/00;H01L51/48 |
| 代理公司: | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232 | 代理人: | 楊敏 |
| 地址: | 215500 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 ibc 太陽能電池 結(jié)構(gòu) 及其 制備 工藝 | ||
本發(fā)明公開了一種IBC太陽能電池結(jié)構(gòu),包括依次層疊設(shè)置的減反射層、正面鈍化膜層、p型擴散層、n型單晶硅基底層、背面鈍化膜層、有機異質(zhì)結(jié)層、背面導(dǎo)電保護(hù)層、背面電極;所述n型單晶硅基底層的背面形成圖形化的有機異質(zhì)結(jié)層,所述有機異質(zhì)結(jié)層包括p型有機異質(zhì)結(jié)層和n型有機異質(zhì)結(jié)層,所述p型有機異質(zhì)結(jié)層和n型有機異質(zhì)結(jié)層中間有形成空間隔離區(qū);本發(fā)明也相應(yīng)地公開上述IBC太陽能電池結(jié)構(gòu)的制備工藝。本發(fā)明通過將有機物質(zhì)和單晶硅接觸面移至電池背面,保證形成均勻、高質(zhì)量的有機雜化異質(zhì)結(jié)膜層,而正表面采用了堿制絨金字塔絨面結(jié)構(gòu),可以大幅提升電池光學(xué)性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太陽能電池技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種低成本有機/晶硅雜化IBC太陽能電池結(jié)構(gòu)及其制備工藝。
背景技術(shù)
太陽能電池是一種將太陽的光能直接轉(zhuǎn)化為電能的半導(dǎo)體器件,利用光能這一可再生資源,在當(dāng)今能源短缺的情形下太陽能電池具有廣闊的發(fā)展前景。
太陽能電池的種類繁多,其中,IBC(Interdigitated back contact,叉指背接觸)太陽能電池以其較高的轉(zhuǎn)換效率、較低的串聯(lián)電阻、簡化的互聯(lián)技術(shù)及良好的外觀等優(yōu)點受到越來越多業(yè)內(nèi)人士的關(guān)注,成為太陽能電池技術(shù)領(lǐng)域較為前沿的高效電池技術(shù)之一。
常規(guī)制作IBC太陽能電池的工藝流程大致為:清洗-表面制絨-雙面擴散摻雜-去玻璃層-絲網(wǎng)印刷阻擋層-刻蝕形成第一導(dǎo)電指區(qū)-擴散形成第二導(dǎo)電指區(qū)-正面制備減反射層-背面制備背鈍化層-絲網(wǎng)印刷第一電極和第二電極-燒結(jié)-激光燒結(jié)。在實際生產(chǎn)過程制作IBC太陽能電池的技術(shù)細(xì)節(jié)及相應(yīng)的操作步驟非常多,繁多的步驟和復(fù)雜的操作使IBC太陽能電池的生產(chǎn)效率較低,并且生產(chǎn)成本也較高,給IBC太陽能電池的發(fā)展造成了困難。
IBC背接觸太陽能電池結(jié)構(gòu)都是通過進(jìn)行背面圖形化摻雜,形成交叉摻雜的n型摻雜區(qū)和p型摻雜區(qū)。因為該圖形化摻雜的需求,在工藝實現(xiàn)方面需要多次掩膜過程,制備流程復(fù)雜,成本極高;另一方面,現(xiàn)在采用的有機無機雜化的異質(zhì)結(jié)太陽能電池,其接觸面一般為平面,這種平面結(jié)構(gòu)會造成光學(xué)反射損失特別多,然后當(dāng)采用絨面結(jié)構(gòu)時,由于有機材料和無機材料(常為晶硅材料)直接的浸潤性比較差,有機材料在晶硅表面無法形成均勻的膜層。
因此亟待一種成本低廉、克服相接面造成大量光學(xué)反射損失的制備工藝。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題,一方面,本發(fā)明提供了一種IBC太陽能電池結(jié)構(gòu),包括依次層疊設(shè)置的減反射層、正面鈍化膜層、p型擴散層、n型單晶硅基底層、背面鈍化膜層、有機異質(zhì)結(jié)層、背面導(dǎo)電保護(hù)層、背面電極;
所述n型單晶硅基底層包括正面和背面,所述正面構(gòu)造為絨面結(jié)構(gòu);所述正面包括p型擴散層且所述p型擴散層形成有正面p+型發(fā)射區(qū);所述背面形成圖形化的有機異質(zhì)結(jié)層,所述有機異質(zhì)結(jié)層包括p型有機異質(zhì)結(jié)層和n型有機異質(zhì)結(jié)層,所述p型有機異質(zhì)結(jié)層和n型有機異質(zhì)結(jié)層中間有形成空間隔離區(qū);所述有機異質(zhì)結(jié)層平整貼附于所述背面鈍化膜層。
作為本發(fā)明實施例的進(jìn)一步改進(jìn),所述減反射層為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氟化鎂中一種或多種。
作為本發(fā)明實施例的進(jìn)一步改進(jìn),所述正面鈍化膜層包括層疊設(shè)置的氧化鋁層和氧化硅層,所述氧化鋁層貼合設(shè)置于所述減反射層,所述氧化硅層貼合設(shè)置于所述p型擴散層。
作為本發(fā)明實施例的進(jìn)一步改進(jìn),所述p型擴散層通過硼擴散或硼離子注入形成。
作為本發(fā)明實施例的進(jìn)一步改進(jìn),所述背面導(dǎo)電保護(hù)層構(gòu)造為透明導(dǎo)電TCO保護(hù)層,所述TCO選自ZnO、In2O3、Ga2O3、TiO2、ZrO2中的一種或多種混合物。
另一方面,本發(fā)明進(jìn)一步公開了一種IBC太陽能電池結(jié)構(gòu)的制備工藝,所述制備工藝包括以下步驟:
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
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- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
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